[发明专利]光学滤波器及使用光学滤波器的装置有效
| 申请号： | 201780052711.5 | 申请日： | 2017-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN109642973B | 公开（公告）日： | 2021-06-08 |
| 发明（设计）人： | 葛西达也;长屋胜也;堀内正子;重冈大介 | 申请（专利权）人： | JSR株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/22 | 分类号： | G02B5/22;B32B7/023;C09B23/00;C09B47/04;C09B57/00;G02B5/26;G02B5/28;H01L27/146 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 李艳;臧建明 |
| 地址： | 日本东京港区东新桥一丁目*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明的课题在于提供一种可以高水平兼顾以往的光学滤波器中无法充分实现的照相机图像的颜色阴影抑制与重影抑制的光学滤波器及使用光学滤波器的装置。本发明的光学滤波器的特征在于：具有满足必要条件(a)～(c)的基材：(a)具有包含在波长650nm以上且760nm以下的区域具有最大吸收的化合物(A)的层；(b)在波长640nm以上的区域中透过率成为10％的最短波长(X |
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| 搜索关键词： | 光学 滤波器 使用 装置 | ||
【主权项】：
1.一种光学滤波器，其特征在于：具有满足下述必要条件(a)、(b)及(c)的基材，且满足下述必要条件(d)及(e)：(a)具有包含在波长650nm以上且760nm以下的区域具有最大吸收的化合物(A)的层；(b)在波长640nm以上的区域中透过率成为10％的最短波长(X1)与第二短波长(X2)的差(X2‑X1)为50nm以上；(c)波长900nm中的透过率、波长1000nm中的透过率、及波长1100nm中的透过率均为65％以下；(d)在波长430nm～580nm的区域中，自光学滤波器的垂直方向测定时的透过率的平均值为75％以上；(e)在波长1100nm～1200nm的区域中，自光学滤波器的垂直方向测定时的透过率的平均值为5％以下。
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