[发明专利]成膜用掩模及成膜装置有效
| 申请号： | 201780025519.7 | 申请日： | 2017-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN109072423B | 公开（公告）日： | 2020-07-14 |
| 发明（设计）人： | 藤井严;江藤谦次;阿部洋一;神保洋介 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | C23C16/04 | 分类号： | C23C16/04;C23C14/04;H05H1/46 |
| 代理公司： | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人： | 袁波;刘继富 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的一个方式涉及的成膜用掩模具有一对第一板部和一对第二板部。上述一对第一板部具有一对第一内周缘部和一对第一外周缘部。上述一对第一内周缘部分别具有在第一轴向上相向且朝向相互分离的方向呈凸形状的第一弯曲部。上述一对第一外周缘部分别与上述一对第一内周缘部在上述第一轴向上相向。上述一对第二板部具有一对第二内周缘部和一对第二外周缘部。上述一对第二内周缘部分别具有在上述第二轴向上相向且朝向相互分离的方向呈凸形状的第二弯曲部。上述一对第二外周缘部分别与上述一对第二内周缘部在上述第二轴向上相向。 | ||
| 搜索关键词： | 成膜用掩模 装置 | ||
【主权项】：
1.一种成膜用掩模，具有：一对第一板部和一对第二板部，所述一对第一板部具有：一对第一内周缘部，其分别具有在第一轴向上相向并朝向相互分离的方向呈凸形状的第一弯曲部；一对第一外周缘部，其分别与所述一对第一内周缘部在所述第一轴向上相向；所述一对第二板部具有：一对第二内周缘部，其分别具有在第二轴向上相向并朝向相互分离的方向呈凸形状的第二弯曲部；一对第二外周缘部，其分别与所述一对第二内周缘部在所述第二轴向上相向。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
