[实用新型]一种等离子割炬喷嘴及应用其的等离子割炬有效
| 申请号： | 201720412842.7 | 申请日： | 2017-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN206898565U | 公开（公告）日： | 2018-01-19 |
| 发明（设计）人： | 周楠;周国清 | 申请（专利权）人： | 周楠 |
| 主分类号： | B23K10/00 | 分类号： | B23K10/00 |
| 代理公司： | 南京知识律师事务所32207 | 代理人： | 高桂珍 |
| 地址： | 213102 江苏省常州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种等离子割炬喷嘴及应用其的等离子割炬，涉及等离子割炬领域。本实用新型的一种等离子割炬，包括割炬体、喷嘴固定座、电极、电极导电座、绝缘套和喷嘴，电极导电座和喷嘴固定座安装于割炬体内，且电极导电座通过绝缘套套设于喷嘴固定座内，电极安装于电极导电座上，喷嘴安装于喷嘴固定座上，并形成密封的冷却水道，电极和喷嘴之间形成放电腔。本实用新型的喷嘴密封安装于喷嘴固定座上，且喷嘴与喷嘴固定座在冷却区域处形成密封的冷却水道，密封效果好，冷却更可靠，喷嘴的使用寿命更长。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子 喷嘴 应用 | ||
【主权项】：
一种等离子割炬喷嘴，包括喷嘴本体，其特征在于：所述的喷嘴本体的外侧壁上设有两道环形凹槽(11)，所述的环形凹槽(11)内安装有密封圈(12)，两道环形凹槽(11)之间形成冷却区域。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于周楠，未经周楠许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201720412842.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
