[实用新型]一种太赫兹成像系统有效
| 申请号： | 201720380031.3 | 申请日： | 2017-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN206876569U | 公开（公告）日： | 2018-01-12 |
| 发明（设计）人： | 申彦春;赵国忠;于佳怡;李帅 | 申请（专利权）人： | 首都师范大学 |
| 主分类号： | G01N21/3586 | 分类号： | G01N21/3586 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100048 北京市海*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种太赫兹成像系统，该装置包括太赫兹波源、高阻硅片、氩离子激光器、第一透镜、第二透镜、样品台、离轴抛物面镜、太赫兹波探测器和计算机；所述太赫兹波源发射出的光束依次通过所述高阻硅片、所述第一透镜、所述第二透镜、所述样品台和所述离轴抛物面镜，所述太赫兹波探测器接收从所述离轴抛物面镜汇聚的所述光束，所述太赫兹波探测器与所述计算机电连接。本实用新型利用透镜系统将太赫兹波准直为平行光束，透过样品后利用离轴抛物面镜将其聚焦到太赫兹波探测器，通过计算机对样品图像进行实时成像显示，并且利用氩离子激光是否照射到高阻硅片上，实现对检测装置的开、关控制。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 赫兹 成像 系统 | ||
【主权项】：
一种太赫兹成像系统，其特征在于，包括太赫兹波源(1)、高阻硅片(2)、氩离子激光器(3)、第一透镜(4)、第二透镜(5)、样品台(6)、离轴抛物面镜(7)、太赫兹波探测器(8)和计算机(9)；所述太赫兹波源(1)发射出的光束依次通过所述高阻硅片(2)、所述第一透镜(4)、所述第二透镜(5)、所述样品台(6)和所述离轴抛物面镜(7)，所述太赫兹波探测器(8)接收从所述离轴抛物面镜(7)汇聚的所述光束，所述太赫兹波探测器(8)与所述计算机(9)电连接；所述氩离子激光器(3)照射到高阻硅片(2)上。
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