[实用新型]半遮架构环防式手榴弹实弹投掷掩体有效

专利信息
申请号: 201720286211.5 申请日: 2017-03-22
公开(公告)号: CN206646895U 公开(公告)日: 2017-11-17
发明(设计)人: 贾英新;张振;多久廷;宁吉军;李光辉;王邵峰;华玉龙 申请(专利权)人: 中国人民解放军装甲兵工程学院
主分类号: E04H9/10 分类号: E04H9/10;E04H9/00
代理公司: 苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙)32257 代理人: 冯瑞
地址: 100072*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 半遮架构环防式手榴弹实弹投掷掩体,包括基坑,基坑的底部铺设有混凝土制成的地基层,地基层上端面的前部与混凝土制成的前挡墙的底部相连为一体,前挡墙向上延伸至基坑上方,地基层的左端侧边与混凝土制成的左挡墙的底端相连为一体,左挡墙向上延伸至基坑上方,地基层的右端侧边与混凝土制成的右挡墙的底端相连为一体,右挡墙向上延伸至基坑上方,地基层的后端侧边与混凝土制成的后挡墙的底端相连为一体,后挡墙向上延伸至基坑上方,后挡墙的墙面为中部向后凸起的半圆弧形。其目的是提供一种可在投弹人员未能将手榴弹投向远处也能确保投弹人员安全,有效避免人员伤亡事故发生,进而让训练可以正常进行下去的半遮架构环防式手榴弹实弹投掷掩体。
搜索关键词: 架构 环防式 手榴弹 实弹 投掷 掩体
【主权项】:
半遮架构环防式手榴弹实弹投掷掩体,其特征在于:包括基坑,基坑的底部沿水平方向铺设有混凝土制成的地基层(1),地基层(1)上端面的前部与混凝土制成的前挡墙(5)的底部相连为一体,前挡墙(5)的墙面位于左右竖直方向,前挡墙(5)向上延伸至基坑上方,地基层(1)的左端侧边与混凝土制成的左挡墙(2)的底端相连为一体,左挡墙(2)的墙面位于前后竖直方向,左挡墙(2)向上延伸至基坑上方,地基层(1)的右端侧边与混凝土制成的右挡墙(3)的底端相连为一体,右挡墙(3)的墙面位于前后竖直方向,右挡墙(3)向上延伸至基坑上方,地基层(1)的后端侧边与混凝土制成的后挡墙(4)的底端相连为一体,后挡墙(4)的墙面位于竖直方向,后挡墙(4)向上延伸至基坑上方,后挡墙(4)的墙面为中部向后凸起的半圆弧形;所述前挡墙(5)的左侧边与左挡墙(2)的前侧边相连为一体,前挡墙(5)的右侧边与右挡墙(3)的前侧边相连为一体,后挡墙(4)的左侧边与左挡墙(2)的后侧边相连为一体,后挡墙(4)的右侧边与右挡墙(3)的后侧边相连为一体;所述基坑的顶部沿水平方向设有混凝土制成的投掷平台(6),投掷平台(6)的前端侧边与前挡墙(5)的中上部相连为一体,投掷平台(6)的左侧边与左挡墙(2)之间设有左落弹沟(7),投掷平台(6)的右侧边与右挡墙(3)之间设有右落弹沟(8),投掷平台(6)朝后的侧边与后挡墙(4)之间设有后落弹沟(9),投掷平台(6)下端面的中部与混凝土制成的支撑墙(10)的顶端相连为一体,支撑墙(10)的墙面位于竖直方向,支撑墙(10)的底端与地基层(1)相连为一体;所述投掷平台(6)朝向左落弹沟(7)、右落弹沟(8)和后落弹沟(9)的侧面分别为一个里高外低的斜坡面。
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