[实用新型]双面研磨机或双面抛光机的上磨盘升降机构有效
| 申请号： | 201720286136.2 | 申请日： | 2017-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN206632812U | 公开（公告）日： | 2017-11-14 |
| 发明（设计）人： | 吴秀凤;范镜 | 申请（专利权）人： | 深圳赛贝尔自动化设备有限公司 |
| 主分类号： | B24B27/00 | 分类号： | B24B27/00;B24B29/00;B24B55/02;B24B41/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市光明新*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种双面研磨机或双面抛光机的上磨盘升降机构，包括机架、上盘组件、升降气缸、压力传感器和控制系统，机架包括横梁，升降气缸的缸体竖直地安装在横梁上方，升降气缸由控制系统驱动；升降气缸活塞杆的下端通过压力传感器接上盘组件；压力传感器的信号输出端接控制系统的控制器。本实用新型的上磨盘升降机构实时监测并调整上盘对工件施加的压力进行，能够防止因上盘压力过大而对工件造成损坏。 | ||
| 搜索关键词： | 双面 研磨机 抛光机 磨盘 升降 机构 | ||
【主权项】：
一种双面研磨机或双面抛光机的上磨盘升降机构，包括机架、上盘组件、升降气缸和控制系统，机架包括横梁，升降气缸的缸体竖直地安装在横梁上方，升降气缸由控制系统驱动；其特征在于，包括压力传感器，升降气缸活塞杆的下端通过压力传感器接上盘组件；压力传感器的信号输出端接控制系统的控制器。
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