[实用新型]一种液晶选区光控取向装置有效
| 申请号： | 201720098204.2 | 申请日： | 2017-01-23 |
| 公开（公告）号： | CN206421129U | 公开（公告）日： | 2017-08-18 |
| 发明（设计）人： | 曾爱军;陈宽;陈国飞;邹朋飞;胡伟;陆延青 | 申请（专利权）人： | 南京先进激光技术研究院;南京大学 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙)32204 | 代理人： | 陈静 |
| 地址： | 210000 江苏省南京市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种液晶选区光控取向装置，包括光源模块、图案复制模块和工件姿态调整模块，光源模块，用于提供工件进行投影曝光的光源；图案复制模块，用于读取、投射和复制图像到工件上；其包括空间光调制器和投影光学系统，空间光调制器根据接收的信号，调制入射光，获得工件上所需光取向的偏振分布信息，光源模块投射在空间光调制器表面的均匀强度照明的光场分布被空间光调制器调制，调制后的光束通过投影光学系统使位于其像方工作面上的光敏材料变性；工件姿态调整模块，用于监控和调整工件的空间姿态，以使工件姿态满足曝光取向要求。本实用新型提供在不使用掩膜板情况下，实现对液晶选区任意图案和偏振状态的取向控制。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 液晶 选区 光控 取向 装置 | ||
【主权项】：
一种液晶选区光控取向装置，其特征在于，包括光源模块、图案复制模块和工件姿态调整模块，光源模块，用于提供工件进行投影曝光的光源；图案复制模块，用于读取、投射和复制图像到工件上；其包括空间光调制器和投影光学系统，空间光调制器根据接收的信号，调制入射光，获得工件上所需光取向的偏振分布信息，光源模块投射在空间光调制器表面的均匀强度照明的光场分布被空间光调制器调制，调制后的光束通过投影光学系统使位于其像方工作面上的光敏材料变性；工件姿态调整模块，用于监控和调整工件的空间姿态，以使工件姿态满足曝光取向要求。
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