[发明专利]一种高产梨树的栽培种植方法在审
| 申请号： | 201711337237.9 | 申请日： | 2017-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN107889682A | 公开（公告）日： | 2018-04-10 |
| 发明（设计）人： | 徐莹莹 | 申请（专利权）人： | 徐莹莹 |
| 主分类号： | A01G17/00 | 分类号： | A01G17/00;A01C21/00;A01G13/02;A01G22/00;A01G7/06 |
| 代理公司： | 安徽深蓝律师事务所34133 | 代理人： | 汪锋 |
| 地址： | 236000 安徽省阜阳市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高产梨树的栽培种植方法，其特征在于，选择远离污染源、灌溉条件和排水条件良好的区域，园地土层厚度≥1m，土壤疏松、有机质含量较高；选择适应性广、抗逆性强的品种，并选择合适的授粉品种，苗木选择无病虫害、生长健壮的特级或一级嫁接苗；梨树栽植采取垄栽或平地栽植，开挖30cm见方的定植穴，将腐熟的农家肥和表土混均后回填，浇水沉实；苗木嫁接口应高于地面，定植后立即浇足水；然后进行均衡施肥、增施有机肥操作，树体较小时采用轮状施肥，成年梨树采用全园施肥，结合中耕将肥料翻入土中；梨树水肥耦合技术，采用梨树根下环绕式滴灌模式；整形修剪技术分为生长期修剪和休眠期修剪；梨园秸秆覆盖与生草覆盖操作。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高产 梨树 栽培 种植 方法 | ||
【主权项】：
一种高产梨树的栽培种植方法，其特征在于，选择远离污染源、灌溉条件和排水条件良好的区域，园地土层厚度≥ 1m，土壤疏松、有机质含量较高；选择适应性广、抗逆性强的品种，并选择合适的授粉品种，苗木选择无病虫害、生长健壮的特级或一级嫁接苗；梨树栽植采取垄栽或平地栽植，开挖30cm见方的定植穴，将腐熟的农家肥和表土混均后回填，浇水沉实；苗木嫁接口应高于地面，定植后立即浇足水；然后进行均衡施肥、增施有机肥操作，树体较小时采用轮状施肥，成年梨树采用全园施肥，结合中耕将肥料翻入土中；梨树水肥耦合技术操作，采用梨树根下环绕式滴灌模式；整形修剪技术分为生长期修剪和休眠期修剪；梨园秸秆覆盖与生草覆盖技术，梨园地面覆盖分为生物秸秆覆盖和种植草覆盖。
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