[发明专利]立式高温真空包渗炉

摘要

本发明提供了一种立式高温真空包渗炉，包括炉体、保温层、加热元件、活化剂装置和真空系统，所述的炉体为竖直放置的中空圆柱，两端分别通过上盖和下盖封闭；所述的炉体内壁布设保温层，保温层内形成热区；所述的加热元件安装在热区中；所述的真空系统与炉体连通；所述的活化剂装置安装在升降装置上，位于炉体下方，能够穿过炉体下盖的通孔进入炉体内；所述的活化剂装置中，活化剂置于活化剂容器内，活化剂容器外安装有独立加热器，待加工工件置于填充硅颗粒的产品箱内，活化剂容器和产品箱通过石墨管连通。本发明能够实现渗硅制备工艺。

主权项

一种立式高温真空包渗炉，包括炉体、保温层、加热元件、活化剂装置和真空系统，其特征在于：所述的炉体为竖直放置的中空圆柱，两端分别通过上盖和下盖封闭；所述的炉体内壁布设保温层，保温层内形成热区；所述的加热元件安装在热区中；所述的真空系统与炉体连通；所述的活化剂装置安装在升降装置上，位于炉体下方，能够穿过炉体下盖的通孔进入炉体内；所述的活化剂装置中，活化剂置于活化剂容器内，活化剂容器外安装有独立加热器，待加工工件置于填充硅颗粒的产品箱内，活化剂容器和产品箱通过石墨管连通。