[发明专利]超导磁共振成像设备的匀场方法在审
| 申请号： | 201711098279.1 | 申请日： | 2017-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN109765509A | 公开（公告）日： | 2019-05-17 |
| 发明（设计）人： | 岳振华;薛廷强;潘怀宇 | 申请（专利权）人： | 西门子（深圳）磁共振有限公司 |
| 主分类号： | G01R33/3815 | 分类号： | G01R33/3815 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518057 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种超导磁共振成像设备的匀场方法，用于对如下磁共振成像设备的磁体的磁场进行匀场，该磁共振成像设备包括：一第一匀场装置，其包括多个匀场条，并沿磁体的周向设置，且沿所述磁体的轴向延伸，一第二匀场装置，其包括多个匀场模块，并沿磁体的周向设置在磁体的两侧端面上，所述匀场方法包括：第一调整步骤，利用第一匀场装置来调整所述磁场的均匀性，并使所述磁场的均匀性达到能够用于磁共振成像的规定值；第二调整步骤，当经过所述第一调整步骤调整得到的所述磁场的均匀性偏离了所述规定值的情况下，利用第二匀场装置来进一步调整当前磁场的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 匀场 磁场 匀场装置 均匀性 调整步骤 磁共振成像设备 超导磁共振 成像设备 周向设置 磁共振成像 轴向延伸 偏离 | ||
【主权项】：
1.一种超导磁共振成像设备的匀场方法，其特征在于，该匀场方法用于对如下磁共振成像设备的磁体的磁场进行匀场，该磁共振成像设备包括：一第一匀场装置，其包括多个匀场条，并沿磁体的周向设置，且沿所述磁体的轴向延伸，一第二匀场装置，其包括多个匀场模块，并沿磁体的周向设置在磁体的两侧端面上，所述匀场方法包括：第一调整步骤，利用第一匀场装置来调整所述磁场的均匀性，并使所述磁场的均匀性达到能够用于磁共振成像的规定值；第二调整步骤，当经过所述第一调整步骤调整得到的所述磁场的均匀性偏离了所述规定值的情况下，利用第二匀场装置来进一步调整当前磁场的均匀性。
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