[发明专利]一种岩彩基板及其底涂工艺

摘要

本发明提供一种岩彩基板及其底涂工艺，其中，所述底涂工艺包括如下步骤S1、提供需要进行底涂的岩彩基板；S2、第一次表面抛光；S3、第二次表面抛光；S4、uv漆渗透处理；S5、第一次干燥；S6、第二次干燥；S7、水性加固处理；S8、第一次底涂；S9、对第一次底涂之后的岩彩板基板进行第四次流平干燥处理，待其完全干燥后，控制岩彩板基板进行换向，并对换向后的岩彩板基板进行第二次底涂；S10、对第二次底涂之后的岩彩板基板进行烘干，并下料得到底涂的岩彩基板。本发明能够对岩彩基板进行有效的加工处理，使其表面满足后续的加工需求，同时，本发明还具有连续性好、加工效率高的优点。

主权项

一种岩彩基板的底涂工艺，其特征在于，所述底涂工艺包括如下步骤：S1、提供需要进行底涂的岩彩基板；S2、对提供的岩彩基板进行第一次表面抛光；S3、对第一次表面抛光的岩彩基板进行第二次表面抛光；S4、对所述岩彩基板进行uv漆渗透处理；S5、对渗透处理之后的岩彩基板进行第一次干燥；S6、对渗透处理之后的岩彩基板进行第二次干燥；S7、待岩彩板基板表面完全干燥后，对岩彩板基板进行水性加固处理；S8、对水性加固之后的岩彩板基板进行第三次干燥处理，待其完全干燥后，进行第一次底涂；S9、对第一次底涂之后的岩彩板基板进行第四次流平干燥处理，待其完全干燥后，控制岩彩板基板进行换向，并对换向后的岩彩板基板进行第二次底涂；S10、对第二次底涂之后的岩彩板基板进行烘干，并下料得到底涂的岩彩基板。