[发明专利]一种测定多孔介质水分特征曲线的方法有效
申请号: | 201710940586.3 | 申请日: | 2017-10-11 |
公开(公告)号: | CN107782703B | 公开(公告)日: | 2020-04-28 |
发明(设计)人: | 陈扣平;吴吉春;卫云波 | 申请(专利权)人: | 南京大学 |
主分类号: | G01N21/59 | 分类号: | G01N21/59 |
代理公司: | 江苏圣典律师事务所 32237 | 代理人: | 贺翔 |
地址: | 210008 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种测定多孔介质水分特征曲线的方法,包括:将待测多孔介质置于砂箱中;砂箱的一侧设置一可见光光源,另一侧设置一个与待测多孔介质一体的暗箱;可见光光源发出的光线透过待测多孔介质后,被设置于暗箱内的CCD相机接收,并利用相机控制软件Maxlm DL自动记录透射光强度;根据比尔定律,建立透射光强度与待测多孔介质饱和度之间的关系,根据透射光强度求出待测多孔介质每一像素点的饱和度;在砂箱不同深度处埋入张力计,实时记录待测多孔介质中的毛细压力;根据测得的饱和度‑毛细压力关系绘制水分特征曲线。本发明方法测得的水分特征曲线与用传统压力膜法测得的结果非常吻合,能够快速准确地获得待测多孔介质中各点的水分特征曲线。 | ||
搜索关键词: | 一种 测定 多孔 介质 水分 特征 曲线 方法 | ||
【主权项】:
一种测定多孔介质水分特征曲线的方法,其特征在于,包括:将待测多孔介质置于砂箱中;砂箱的一侧设置一可见光光源,另一侧设置一个与待测多孔介质一体的暗箱;可见光光源发出的光线透过待测多孔介质后,被设置于暗箱内的CCD相机接收,并利用相机控制软件Maxlm DL自动记录透射光强度;根据比尔定律,建立透射光强度与待测多孔介质饱和度之间的关系,根据透射光强度求出待测多孔介质每一像素点的饱和度;在砂箱不同深度处埋入张力计,实时记录待测多孔介质中的毛细压力;根据测得的饱和度‑毛细压力关系绘制待测多孔介质的水分特征曲线。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京大学,未经南京大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710940586.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。