[发明专利]超薄遮光膜硅胶面胶水转印工艺有效
| 申请号： | 201710885497.3 | 申请日： | 2017-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN108146092B | 公开（公告）日： | 2019-07-05 |
| 发明（设计）人： | 刘天光;文境铭 | 申请（专利权）人： | 深圳市锦兆电子科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B41M5/382 | 分类号： | B41M5/382 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市光明*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种超薄遮光膜硅胶面胶水转印工艺，该胶水转印工艺包括下述步骤：步骤S1、开料：采用的材料包括下述：硅胶转印膜：采用硅胶保护膜作为硅胶转印膜；遮光膜材料采用透明PET膜；不干胶胶水：胶水3M胶水；步骤S2、胶水印刷：将不干胶胶水印刷在硅胶转印膜的硅胶面上；步骤S3、转印：将不干胶胶水转印到PET膜上；步骤S4、贴保护膜：在透明PET膜上的胶水层上贴上离型纸保护膜，即完成。本发明采用硅胶作为材质进行胶水转印，可实现超薄遮光膜的胶水自动印刷，不仅可提高生产效率，降低人工成本，还可以提高产品的合格率，减少加工过程中的损毁。 | ||
| 搜索关键词： | 胶水 硅胶 不干胶 转印工艺 遮光膜 转印膜 转印 透明PET膜 保护膜 硅胶保护膜 遮光膜材料 印刷 人工成本 生产效率 自动印刷 胶水层 离型纸 开料 损毁 贴上 合格率 | ||
【主权项】：
1.一种超薄遮光膜硅胶面胶水转印工艺，其特征是：所述的胶水转印工艺包括下述步骤：步骤S1、开料：采用的材料包括下述：硅胶转印膜：采用硅胶保护膜作为硅胶转印膜；遮光膜材料采用透明PET膜；不干胶胶水：胶水采用3M胶水；步骤S2、胶水印刷：将不干胶胶水印刷在硅胶转印膜的硅胶面上；步骤S3、转印：将不干胶胶水转印到PET膜上；步骤S4、贴保护膜：在透明PET膜上的胶水层上贴上离型纸保护膜，即完成。
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