[发明专利]一种地瓜的栽培方法在审
| 申请号： | 201710814919.8 | 申请日： | 2017-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN109744109A | 公开（公告）日： | 2019-05-14 |
| 发明（设计）人： | 李袁鑫 | 申请（专利权）人： | 李袁鑫 |
| 主分类号： | A01G22/25 | 分类号： | A01G22/25;A01G13/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 110000 辽宁省沈阳*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种地瓜的栽培方法。依次进行备垄、栽苗和覆膜。本发明使地瓜长在地表，一棵地瓜秧上大概接多少地瓜，差不多就能知道，顺着地瓜芽的方向拔起地瓜几乎就都能拔出，这样就不需要盲目的起地瓜了，也防止了在起地瓜的同时把地瓜撅断，且本技术减少的草的生长，也减少过多养分的流失从而还可以使地瓜增产，通过光合作用以及防止过多的水分进入，还可以使地瓜更香甜。 | ||
| 搜索关键词： | 光合作用 栽培 地瓜秧 拔出 覆膜 栽苗 地表 增产 生长 | ||
【主权项】：
1.一种地瓜的栽培方法，其特征在于，具体的栽培步骤为，(1)备垄首先在平整的地上起两个垄，接着在垄台底部放置底肥和农药，然后往回收土，再经一遍垄，完成了备垄；(2)栽苗栽苗的同时放入化肥，然后等2～3天，观察成活率，没有成活的地瓜苗再补栽一遍；(3)覆膜给补完苗的地瓜苗覆膜，覆膜所采用的膜为宽药膜，宽度为95cm，厚度为0.01～0.1mm。
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