[发明专利]成像透镜、相机模块与电子装置有效
| 申请号： | 201710669900.9 | 申请日： | 2017-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN109212638B | 公开（公告）日： | 2020-11-06 |
| 发明（设计）人： | 张明顺;周明达 | 申请（专利权）人： | 大立光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B3/02 | 分类号： | G02B3/02 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 中国台湾台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明揭露一种成像透镜、相机模块与电子装置。成像透镜由光轴至周边依序包含光学有效区及外径区。外径区环绕光学有效区并包含外径曲面、缩减注料痕及净空面。外径曲面与光学有效区同轴于光轴，且外径参考面与外径曲面对应于光轴。缩减注料痕由外径参考面朝光轴内缩，且缩减注料痕包含注料痕曲面。净空面连接外径曲面及缩减注料痕。通过缩减注料痕且法线平行于光轴的成像透镜的剖面上，注料痕曲面的曲率中心较注料痕曲面接近光轴。借此，有助于降低杂散光。本发明还提供一种具有上述成像透镜的相机模块及具有上述相机模块的电子装置。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 透镜 相机 模块 电子 装置 | ||
【主权项】：
1.一种成像透镜，其特征在于，其由一光轴至一周边依序包含：一光学有效区；以及一外径区，其环绕该光学有效区并包含：一外径曲面，其与该光学有效区同轴于该光轴，且一外径参考面与该外径曲面对应于该光轴；一缩减注料痕，其由该外径参考面朝该光轴内缩，且该缩减注料痕包含一注料痕曲面；及一净空面，其连接该外径曲面及该缩减注料痕；其中，通过该缩减注料痕且法线平行于该光轴的该成像透镜的一剖面上，该注料痕曲面的曲率中心较该注料痕曲面接近该光轴，该注料痕曲面的曲率半径为r，该外径曲面的曲率半径为R，该净空面与该外径参考面之间的最大高度差为d，该缩减注料痕与该净空面之间的最大高度差为h，其满足下列条件：0.60
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