[发明专利]改良的热处理腔室

摘要

描述于此的实施方式提供一种基板处理设备，所述基板处理设备包括真空腔室，所述真空腔室包括第一拱形结构和第二拱形结构；基板支撑件，所述基板支撑件设置于所述真空腔室内部的所述第一拱形结构和所述第二拱形结构之间；准直能量源，所述准直能量源布置于分隔壳体中且接近所述第二拱形结构放置，其中所述第二拱形结构介于所述准直能量源和所述基板支撑件之间。所述第二拱形结构的至少一部分和所述基板支撑件可对来自所述准直能量源的准直能量为光学透明的。

主权项

一种基板处理设备，所述基板处理设备包括：真空腔室，所述真空腔室包括第一拱形结构和第二拱形结构；基板支撑件，所述基板支撑件设置于所述真空腔室内部的所述第一拱形结构和所述第二拱形结构之间且面对所述第一拱形结构；准直能量源，所述准直能量源接近所述真空腔室的所述第二拱形结构放置，其中所述第二拱形结构的至少一部分及所述基板支撑件对从所述准直能量源发射的准直能量为光学透明的；金属构件，所述金属构件设置于所述真空腔室的所述第二拱形结构和所述准直能量源之间，其中所述金属构件包括多个孔隙；和反射器，所述反射器用于引导来自所述准直能量源的准直能量通过所述金属构件中的所述多个孔隙。