[发明专利]一种折射率梯度变化的硅光子模斑转换器有效

专利信息
申请号: 201710556977.5 申请日: 2017-07-10
公开(公告)号: CN107329208B 公开(公告)日: 2023-05-09
发明(设计)人: 方青;胡娟;张志群;陈华 申请(专利权)人: 熠谱(上海)半导体制造有限公司
主分类号: G02B6/14 分类号: G02B6/14;G02B6/122
代理公司: 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 23211 代理人: 邓宇
地址: 201306 上海市浦东新区自*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种折射率梯度变化的硅光子模斑转换器,属于半导体光信号传输技术领域。该转换器中SOI晶片衬底表面设有SiO2支撑结构,SiO2支撑结构上表面与硅光子锥形波导下表面相连,硅光子锥形波导与硅光子条形波导处于同一平面,且位于SiO2支撑结构上方,SiO2支撑结构、硅光子锥形波导、硅光子条形波导上设有将这三个结构封闭包围的梯度叠层SiOxNy内包层,梯度叠层SiOxNy内包层为以SOI晶片衬底为底从下至上折射率逐步梯度减小的叠层材料层,梯度叠层SiOxNy内包层四周设有SiO2外包层。本发明中的折射率梯度变化的硅光子模斑转换器解决了现有硅光子‑光纤模斑转换器的在光学性能和可靠性方面难以满足应用的要求,能够同时获得好的光学性能和高可靠性。
搜索关键词: 一种 折射率 梯度 变化 子模 转换器
【主权项】:
一种折射率梯度变化的硅光子模斑转换器,其特征在于:包括SiO2外包层(1)、SiO2支撑结构(2)、硅光子锥形波导(3)、硅光子条形波导(4)、SOI晶片衬底(5)和梯度叠层SiOxNy内包层(6),SOI晶片衬底(5)表面设有SiO2支撑结构(2),SiO2支撑结构(2)上表面与硅光子锥形波导(3)下表面相连,硅光子锥形波导(3)与硅光子条形波导(4)处于同一平面,且位于SiO2支撑结构(2)上方,SiO2支撑结构(2)、硅光子锥形波导(3)、硅光子条形波导(4)上设有将这三个结构封闭包围的梯度叠层SiOxNy内包层(6),梯度叠层SiOxNy内包层(6)为以SOI晶片衬底(5)为底从下至上折射率逐步梯度减小的叠层材料层,梯度叠层SiOxNy内包层(6)四周设有SiO2外包层(1),其中梯度叠层SiOxNy内包层中x、 y 分别为材料中氧、 氮的原子摩尔数且2x+3y=4,0≤x≤2,0≤y≤4/3。
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