[发明专利]一种折射率梯度变化的硅光子模斑转换器有效
申请号: | 201710556977.5 | 申请日: | 2017-07-10 |
公开(公告)号: | CN107329208B | 公开(公告)日: | 2023-05-09 |
发明(设计)人: | 方青;胡娟;张志群;陈华 | 申请(专利权)人: | 熠谱(上海)半导体制造有限公司 |
主分类号: | G02B6/14 | 分类号: | G02B6/14;G02B6/122 |
代理公司: | 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 23211 | 代理人: | 邓宇 |
地址: | 201306 上海市浦东新区自*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: |
本发明涉及一种折射率梯度变化的硅光子模斑转换器,属于半导体光信号传输技术领域。该转换器中SOI晶片衬底表面设有SiO |
||
搜索关键词: | 一种 折射率 梯度 变化 子模 转换器 | ||
【主权项】:
一种折射率梯度变化的硅光子模斑转换器,其特征在于:包括SiO2外包层(1)、SiO2支撑结构(2)、硅光子锥形波导(3)、硅光子条形波导(4)、SOI晶片衬底(5)和梯度叠层SiOxNy内包层(6),SOI晶片衬底(5)表面设有SiO2支撑结构(2),SiO2支撑结构(2)上表面与硅光子锥形波导(3)下表面相连,硅光子锥形波导(3)与硅光子条形波导(4)处于同一平面,且位于SiO2支撑结构(2)上方,SiO2支撑结构(2)、硅光子锥形波导(3)、硅光子条形波导(4)上设有将这三个结构封闭包围的梯度叠层SiOxNy内包层(6),梯度叠层SiOxNy内包层(6)为以SOI晶片衬底(5)为底从下至上折射率逐步梯度减小的叠层材料层,梯度叠层SiOxNy内包层(6)四周设有SiO2外包层(1),其中梯度叠层SiOxNy内包层中x、 y 分别为材料中氧、 氮的原子摩尔数且2x+3y=4,0≤x≤2,0≤y≤4/3。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于熠谱(上海)半导体制造有限公司,未经熠谱(上海)半导体制造有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710556977.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。