[发明专利]短波红外二极管及其形成方法在审
申请号: | 201710539201.2 | 申请日: | 2017-07-04 |
公开(公告)号: | CN107293611A | 公开(公告)日: | 2017-10-24 |
发明(设计)人: | 耿阳;胡少坚;陈寿面 | 申请(专利权)人: | 上海集成电路研发中心有限公司 |
主分类号: | H01L31/103 | 分类号: | H01L31/103;H01L31/0352;H01L31/18;H01L21/02 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人: | 王仙子 |
地址: | 201210 上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种短波红外二极管及其形成方法,所述短波红外二极管包括辅助成核层、缓冲层和铟镓砷PN结,所述辅助成核层设置在衬底上用于诱导结晶,所述缓冲层设置在所述辅助成核层上,所述铟镓砷PN结设置在所述缓冲成核层上。本发明提供的短波红外二极管及其形成方法,所述短波红外二极管具有辅助成核层和缓冲层,在辅助成核层的诱导结晶作用下可以适用于多种的衬底,再通过缓冲层生长出铟镓砷层,进而可形成铟镓砷PN结,由于辅助成核层以及缓冲层的作用使短波红外二极管及其形成方式可以利用多种尺寸、多种材料的衬底,相比于成本较高的InP衬底晶片,降低对衬底的要求,从而降低衬底晶片的成本,并能提高了短波红外二极管产品的应用设计的灵活性。 | ||
搜索关键词: | 短波 红外 二极管 及其 形成 方法 | ||
【主权项】:
一种短波红外二极管,其特征在于,所述短波红外二极管包括:辅助成核层,所述辅助成核层设置在衬底上用于诱导结晶;缓冲层,所述缓冲层设置在所述辅助成核层上;铟镓砷PN结,所述铟镓砷PN结设置在所述缓冲层上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海集成电路研发中心有限公司,未经上海集成电路研发中心有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710539201.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的