[发明专利]短波红外二极管及其形成方法在审

专利信息
申请号: 201710539201.2 申请日: 2017-07-04
公开(公告)号: CN107293611A 公开(公告)日: 2017-10-24
发明(设计)人: 耿阳;胡少坚;陈寿面 申请(专利权)人: 上海集成电路研发中心有限公司
主分类号: H01L31/103 分类号: H01L31/103;H01L31/0352;H01L31/18;H01L21/02
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 代理人: 王仙子
地址: 201210 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种短波红外二极管及其形成方法,所述短波红外二极管包括辅助成核层、缓冲层和铟镓砷PN结,所述辅助成核层设置在衬底上用于诱导结晶,所述缓冲层设置在所述辅助成核层上,所述铟镓砷PN结设置在所述缓冲成核层上。本发明提供的短波红外二极管及其形成方法,所述短波红外二极管具有辅助成核层和缓冲层,在辅助成核层的诱导结晶作用下可以适用于多种的衬底,再通过缓冲层生长出铟镓砷层,进而可形成铟镓砷PN结,由于辅助成核层以及缓冲层的作用使短波红外二极管及其形成方式可以利用多种尺寸、多种材料的衬底,相比于成本较高的InP衬底晶片,降低对衬底的要求,从而降低衬底晶片的成本,并能提高了短波红外二极管产品的应用设计的灵活性。
搜索关键词: 短波 红外 二极管 及其 形成 方法
【主权项】:
一种短波红外二极管,其特征在于,所述短波红外二极管包括:辅助成核层,所述辅助成核层设置在衬底上用于诱导结晶;缓冲层,所述缓冲层设置在所述辅助成核层上;铟镓砷PN结,所述铟镓砷PN结设置在所述缓冲层上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海集成电路研发中心有限公司,未经上海集成电路研发中心有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710539201.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top