[发明专利]被动式关联成像光学系统有效

专利信息
申请号: 201710525289.2 申请日: 2017-06-30
公开(公告)号: CN107390214B 公开(公告)日: 2020-06-30
发明(设计)人: 李望;韩申生;吴建荣;沈夏;龚文林;陈明亮 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G01S13/89 分类号: G01S13/89;G01S7/02
代理公司: 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 代理人: 张宁展
地址: 201800 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种被动式关联成像的光学系统,包括前置成像镜组、场镜成像镜、相位板散斑调制器和中继二次成像镜组四部分。在自然光照明物体的情况下,先由前置成像镜组将物体成像到一次实像面,后由场镜成像镜将前置成像镜组的入瞳成像到干涉散斑场,其中干涉散斑场是在相位板后面1.5mm处形成的干涉场。最后由中继二次成像镜组将干涉散斑场成像到CCD上。本发明将空间物体的信息进行频谱变换,在出瞳面形成干涉散斑场,在干涉散斑场上每一点的信息包含所有物点的能量信息。通过CCD将干涉散斑信息采集之后,进而通过关联运算来解算散斑场图像,反演出高光谱物体图像。本发明具有在单次曝光下,获得高光谱、三维图像的优点。
搜索关键词: 被动式 关联 成像 光学系统
【主权项】:
一种被动式关联成像光学系统,其特征在于沿入射光线方向依次是同光轴的前置成像镜组的孔径光阑(11)即入瞳、前组成像镜(1)、分光片(2)、后组成像镜(3)、滤光片(4)、前置成像实像面(5)、场镜(6)、相位板散斑调制器(7)、干涉散斑场(8)、中继二次成像镜组(9)和CCD(10),所述的场镜(6)的入射面位于所述的前置成像实像面(5),所述的场镜(6)再将前置成像镜组的入瞳成像到所述的干涉散斑场(8),所述的中继二次成像镜组(9)将所述的干涉散斑场(8)放大并成像在所述的CCD(10)的探测面上,所述的前置成像实像面(5)与所述的相位板散斑调制器(7)之间的距离视为物距D1,所述的相位板散斑调制器(7)与所述的干涉散斑场(8)之间的距离视为像像距D2,所述的相位板散斑调制器(7)的散斑大小H2满足下列关系式:H1/H2=D1/D2其中,H1为所述的前置成像实像面(5)形成的艾里斑尺寸。
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