[发明专利]一种基于Mittag-Leffler函数的贝塞尔-高斯光束掩模板有效
申请号: | 201710508791.2 | 申请日: | 2017-06-28 |
公开(公告)号: | CN107065046B | 公开(公告)日: | 2019-05-03 |
发明(设计)人: | 李贺贺;赵天乐;马海祥;位华亮;李晓艳;吴瑞琪;肖赵云 | 申请(专利权)人: | 河南科技大学 |
主分类号: | G02B5/00 | 分类号: | G02B5/00;G21K1/00 |
代理公司: | 洛阳公信知识产权事务所(普通合伙) 41120 | 代理人: | 宋晨炜 |
地址: | 471000 河*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | 一种基于Mittag‑Leffler函数的贝塞尔‑高斯光束掩模板,利用信息光学原理,结合Mittag‑Leffler调制函数、贝塞尔‑高斯光束与平面波复振幅,得到干涉光强图,实现了全息原理的干涉记录过程,该干涉光强图即为本发明所设计的掩模板。本发明有益效果:本发明提供了一种基于Mittag‑Leffler函数的贝塞尔‑高斯光束掩模板,利用该掩模板可产生任意光瓣数的模式分布,在多粒子捕获等领域具有重要的应用价值。 | ||
搜索关键词: | 掩模板 高斯光束 干涉光 调制函数 记录过程 粒子捕获 模式分布 全息原理 信息光学 复振幅 平面波 光瓣 干涉 应用 | ||
【主权项】:
1.一种基于Mittag‑Leffler函数的贝塞尔‑高斯光束掩模板,其特征在于:所述的掩模板的透过率函数满足关系式:
其中,ML为Mittag‑Leffler函数,其表达式为
,其中
,i为虚数单位,L为与光场分布有关的参数,
,C为复数集合,
代表波数,n表示折射率,
表示光波波长,
表示伽马函数;BG为贝塞尔高斯光束表达式,具体为
,其中
是M阶贝塞尔函数,
为与贝塞尔函数相关的参数,
为径向参量,
为角向参量,
为相应基模高斯光束的束腰宽度,
为涡旋相位,m代表拓扑电荷数;Ep为平面波因子电场表达式,具体为
,其中E0为初始复振幅,z为传播距离。
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