[发明专利]一种聚四氟乙烯与氧化铝原子层复合减反膜的制备方法有效
| 申请号： | 201710508231.7 | 申请日： | 2017-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN107337356B | 公开（公告）日： | 2020-05-22 |
| 发明（设计）人： | 张政军;乐雅;淮晓晨 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | C03C17/42 | 分类号： | C03C17/42 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 邸更岩 |
| 地址： | 100084 北京市海淀区1*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种聚四氟乙烯与氧化铝原子层复合减反膜的制备方法，该方法首先采用电子束蒸镀方法，在透明或半透明的基底上沉积一层致密聚四氟乙烯层，然后再沉积多孔聚四氟乙烯纳米棒层，得到双层聚四氟乙烯膜；再将获得的双层聚四氟乙烯膜放入原子层沉积设备中，沉积一层氧化铝包覆层。研究发现，该复合膜对可见光范围内的多角度入射光均具有极佳的减反增透作用；同时由于聚四氟乙烯特殊疏水疏油的表面性质及化学稳定性，使得该减反膜具有良好的自清洁效果和极好的生物相容性；另外，氧化铝原子层能保持均匀极小厚度，能全面覆盖样品表面。在满足膜的减反增透的要求下，亦可提高薄膜的机械强度，满足光学器件、光子器件、滤色器等表面减反增透的实际应用要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 聚四氟乙烯 氧化铝 原子 复合 减反膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种聚四氟乙烯与氧化铝原子层复合减反膜的制备方法，其特征在于该方法包括如下步骤：1)利用电子束蒸镀方法，先将沉积角度设定为0°，在透明或半透明的基底上沉积一层反射率为1.30～1.50的致密聚四氟乙烯层；2)将沉积角度设定为80°，再在获得的致密聚四氟乙烯层上沉积一层反射率为1.15～1.25的多孔聚四氟乙烯纳米棒层，得到双层聚四氟乙烯膜；3)将获得的双层聚四氟乙烯膜放入原子层沉积设备中，循环次数设置为5～15，沉积一层氧化铝包覆层。
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