[发明专利]研磨层及其制造方法以及研磨方法有效
| 申请号： | 201710507058.9 | 申请日： | 2017-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN107571144B | 公开（公告）日： | 2020-06-12 |
| 发明（设计）人： | 潘毓豪;沈清煌;王裕标 | 申请（专利权）人： | 智胜科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/24 | 分类号： | B24B37/24;B24B37/26 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 马雯雯;臧建明 |
| 地址： | 中国台湾*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种研磨层及其制造方法以及研磨方法，所述研磨层的制造方法包括以下步骤。提供模腔具有一轮廓图案的模具，轮廓图案沿一方向的剖面包括多个凹槽以及至少一凹穴部，其中该至少一凹穴部配置在该些凹槽中的至少一者的底部上。将聚合物材料配置于模腔中。使聚合物材料固化成型，以形成一半成品，其中半成品沿该方向的剖面包括对应凹槽的多个研磨部以及对应至少一凹穴部的至少一凸出部。对该半成品进行一平面化程序，以移除至少一凸出部。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 及其 制造 方法 以及 | ||
【主权项】：
一种研磨层的制造方法，其特征在于，包括：提供模具，所述模具具有模腔，所述模腔具有轮廓图案，所述轮廓图案沿一方向的剖面包括多个凹槽以及至少一凹穴部，其中所述至少一凹穴部配置在所述多个凹槽中的至少一者的底部上；将聚合物材料配置于所述模腔中；使所述聚合物材料固化成型，以形成半成品，其中所述半成品沿所述方向的剖面包括对应所述多个凹槽的多个研磨部以及对应所述至少一凹穴部的至少一凸出部；以及对所述半成品进行平面化程序，以移除所述至少一凸出部。
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- 2022-08-26 - 2023-04-18 - B24B37/24
- 本发明公开了一种高耐磨性化学机械抛光垫及其制备方法和应用，涉及的是化学机械抛光垫的制备领域。本发明通过用超声波和分散剂处理氧化石墨烯，再加入到聚氨酯树脂溶液中，涂布于透明薄膜基材上，通过凝结成膜法获得多孔聚氨酯膜，随后经后处理制备成抛光垫，具有优异的耐磨性、抛光性和稳定性。通过超声波分散，使氧化石墨烯分散成单层结构，同时分散剂使单片层结构均匀分散在聚氨酯树脂溶液中，氧化石墨烯表面的含氧官能团与聚氨酯官能团之间可以形成氢键交联点，从而使凝结形成的聚氨酯膜物理机械性能得到提升，可延长抛光垫使用寿命，提高抛光性能稳定性。
- 一种高抛光稳定性的化学机械抛光垫及其制备方法-202211115146.1
- 相红旗;陈浩聪;姚力军 - 宁波赢伟泰科新材料有限公司;宁波江丰电子材料股份有限公司
- 2022-09-14 - 2023-04-14 - B24B37/24
- 本发明公开了一种高抛光稳定性的化学机械抛光垫及其制备方法，涉及的是化学机械抛光技术领域。通过将水溶性聚合物溶解于一种溶剂中配制成溶液，再将溶液加入到树脂溶液中，涂布于塑料薄膜基材上，通过凝结成膜法获得多孔树脂膜，再经水洗工序溶解其中的水溶性聚合物形成微孔洞，最终经后处理制备成抛光垫。所述水溶性聚合物易溶于水，因而在树脂溶液凝结成膜的过程中水溶性聚合物会调节树脂浆料凝结和溶剂置换过程，使水滴形孔洞尺寸更加均匀，同时在凝结的树脂内形成微小的相互贯通的微孔，使抛光液可以在相邻的水滴形孔洞内交互流动并更加均匀的供给到抛光界面，提高了抛光垫性能稳定性，提升了抛光效果。
- 化学机械抛光垫及其制备-202211241561.1
- 钱百年;R·M·布洛姆奎斯特;L·M·埃尔赛德;M·E·米尔斯;K-A·雷迪;B·K·泰勒;S·夏 - 杜邦电子公司;罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
- 2022-10-11 - 2023-04-14 - B24B37/24
- 本发明涉及一种具有抛光层的化学机械抛光垫。该抛光层含有挤出片材。该挤出片材是含有嵌段共聚物、可UV固化丙烯酸酯和光引发剂的可光聚合组合物。
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