[发明专利]一种360°全视场角衍射光学元件及其设计方法在审
申请号: | 201710471327.0 | 申请日: | 2017-06-20 |
公开(公告)号: | CN107085298A | 公开(公告)日: | 2017-08-22 |
发明(设计)人: | 郑国兴;李子乐;王宇;吴伟标;邓联贵;戴琦 | 申请(专利权)人: | 武汉大学 |
主分类号: | G02B27/00 | 分类号: | G02B27/00;G02B27/42 |
代理公司: | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙)42222 | 代理人: | 薛玲 |
地址: | 430072 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明一种360°全视场角衍射光学元件及其设计方法,包括基底层和蚀刻在基底层工作面上周期排列的若干纳米砖,所述基底层可划分为若干与纳米砖相对应的单元结构,所有单元结构长宽高相同,单个单元结构的工作面为正方形,其边长为400nm,所有纳米砖的尺寸相同,其长宽高尺寸分别为200nm×120nm×310nm,且纳米砖的长、宽、高均为亚波长尺度,所述纳米砖以不同朝向角设于对应的单元结构上,所述朝向角为该纳米砖位相的一半。本发明巧妙利用了纳米砖阵列材料的几何位相和电磁共振效应,实现了传统衍射光学元件不能实现的前后向同时传输功能,扩展了衍射光实际可到达的范围,同时实现了对特定波长透反能量各占一半且位相的精密连续操控。 | ||
搜索关键词: | 一种 360 视场 衍射 光学 元件 及其 设计 方法 | ||
【主权项】:
一种360°全视场角衍射光学元件,其特征在于:基底层的工作面上蚀刻有周期性排列的纳米砖阵列单元,其工作方式为半反射半透射式,所述基底层可划分为若干与纳米砖相对应的单元结构,所有单元结构长宽高相同,单个单元结构的工作面为正方形,其边长为400nm,所有纳米砖的尺寸相同,其长宽高尺寸分别为200nm×120nm×310nm,且纳米砖的长、宽、高均为亚波长尺度,所述纳米砖以不同朝向角α(i,j)设于对应的单元结构上,所述朝向角为纳米砖长轴与工作面坐标系xoy中x轴的夹角,并满足单元结构内α(i,j)=Φ(i,j)/2,其中i,j表示x和y轴方向上第(i,j)个纳米砖,Φ(i,j)为该纳米砖位相分布。
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