[发明专利]一种表面修饰的胶态硅纳米晶的制备方法有效
| 申请号： | 201710462264.2 | 申请日： | 2017-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN107057691B | 公开（公告）日： | 2019-07-02 |
| 发明（设计）人： | 吴文顺;郝惠莲 | 申请（专利权）人： | 上海工程技术大学 |
| 主分类号： | C09K11/59 | 分类号： | C09K11/59;C01B21/082;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 上海唯智赢专利代理事务所(普通合伙) 31293 | 代理人： | 吴瑾瑜 |
| 地址： | 201620 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种表面修饰的胶态硅纳米晶的制备方法，该制备方法包括以下步骤：1)纳米硅粉与有机溶剂的混合液，在搅拌状态下激光烧灼处理；2)将激光烧灼后的混合液分离处理，得到胶态硅纳米晶。该制备方法制备所得胶态硅纳米晶的粒径分布范围可控，分散性好，无团聚发生，且可避免氧化的发生。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 表面 修饰 胶态硅 纳米 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种表面修饰的胶态硅纳米晶的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：1)纳米硅粉与有机溶剂的混合液，在搅拌状态下激光烧灼；2)将激光烧灼后的混合液分离处理，得到胶态硅纳米晶；其中，有机溶剂为乙醇、甲苯、正己烯或1‑十八烯；激光烧灼条件为，钛/蓝宝石激光器的参数：功率：600～810mW，波长：500～800nm，照射持续时间：100fs，频率：80MHz；烧灼时长1～6h。
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