[发明专利]用于设计和制造半导体器件的方法以及相应的半导体器件有效

专利信息
申请号: 201710414242.9 申请日: 2017-06-05
公开(公告)号: CN107463724B 公开(公告)日: 2021-03-19
发明(设计)人: A·屈泽尔 申请(专利权)人: 英飞凌科技股份有限公司
主分类号: G06F30/398 分类号: G06F30/398;H01L21/822;H01L27/02
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 郑立柱
地址: 德国诺伊*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提出了用于设计半导体器件的方法、用于制造半导体器件的方法以及相应的半导体器件。在此电容结构或者与供电网络耦合,或者用于消除设计违规。
搜索关键词: 用于 设计 制造 半导体器件 方法 以及 相应
【主权项】:
一种用于设计半导体器件的方法,包括:设计包括多个电容结构的所述半导体器件的前段制程结构,确定设计违规,设计所述多个电容结构的第一部分电容结构的连接以补偿设计违规,以及设计所述多个电容结构的第二部分电容结构与所述半导体器件的供电网络的连接。
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