[发明专利]一种3年及以上生黄桃种植期减施肥料的种植方法在审

专利信息
申请号: 201710379650.5 申请日: 2017-05-25
公开(公告)号: CN107258424A 公开(公告)日: 2017-10-20
发明(设计)人: 吕德文 申请(专利权)人: 马鞍山市绿营林业有限公司
主分类号: A01G17/00 分类号: A01G17/00;A01G13/00;A01C21/00
代理公司: 合肥广源知识产权代理事务所(普通合伙)34129 代理人: 李显锋
地址: 238100 安徽省马鞍*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明属于果树栽培种植技术领域,具体涉及一种3年及以上生黄桃种植期减施肥料的种植方法。每年春季3月中旬‑4月初,对黄桃植株进行整形,并在黄桃树60‑65cm半径范围挖环形槽,5‑7天后,根施复合肥,保证施肥均匀,厚度一致,施肥半径小于环形槽半径,30‑38天后,根施有机肥,保证施肥均匀,厚度一致,施肥半径小于环形槽半径;本发明种植方法是针对开始结果的3年及以上生黄桃树专门设计,通过本发明种植方法施肥,一年仅需施一次肥料,并在保证株势和产量的前提下,施肥总量显著减少,有效降低了种植成本。
搜索关键词: 一种 以上 生黄桃 种植 施肥 方法
【主权项】:
一种3年及以上生黄桃种植期减施肥料的种植方法,其特征在于,具体的,每年春季3月中旬‑4月初,对黄桃植株进行整形,剪去黄桃80‑90%新生枝芽、剪去15‑20%非挂果侧枝、用网状半圆形模具将黄桃树冠套在模具内部,网状半圆形模具半径为80‑120cm,修剪从网孔伸出的枝叶;修剪完成后,叶面喷施一次青霉菌水解液;喷施完成16‑20天,在黄桃根系处施加壳聚糖稀释液,并在黄桃树60‑65cm半径范围挖环形槽,5‑7天后,根施复合肥,保证施肥均匀,厚度一致,施肥半径小于环形槽半径,30‑38天后,根施有机肥,保证施肥均匀,厚度一致,施肥半径小于环形槽半径;所述青霉素水解液制作时,将青霉菌接种于青瓜原汁中,全暗环境中常温放置青瓜原汁表层长出一层青霉菌菌丝,将菌丝从青瓜原汁中分离出去,青瓜原汁在180‑200℃的蒸汽下蒸制灭菌40‑50秒,稀释100‑120倍,得到青霉素水解液;所述壳聚糖稀释液制作时,将壳聚糖与水按1:1800‑2200的体积比混合搅拌均匀,加硫酸亚铁调节pH至5.6‑5.8,按3‑5‰的比例接种胶原蛋白酶,得到壳聚糖稀释液。
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