[发明专利]三维聚焦流合成液滴微流控芯片及其制作方法在审
申请号: | 201710359057.4 | 申请日: | 2017-05-19 |
公开(公告)号: | CN107126987A | 公开(公告)日: | 2017-09-05 |
发明(设计)人: | 钱翔;吴艳;王晓浩;张旻;董瑛 | 申请(专利权)人: | 清华大学深圳研究生院 |
主分类号: | B01L3/00 | 分类号: | B01L3/00 |
代理公司: | 深圳新创友知识产权代理有限公司44223 | 代理人: | 王震宇 |
地址: | 518055 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种三维聚焦流合成液滴微流控芯片及制作方法,该芯片包含连续相层和离散相层;连续相层包含连续相流道、连续相储液池、防堵塞阵列结构、流体输出流道和流体输出口,离散相层包含离散相流道、离散相储液池和收缩口;连续相流道从连续相储液池开始,经过防堵塞阵列结构后在中途分成两条连续相流道,对称分布于离散相流道两侧,并且最终在离散相流道出口处相交相通,经收缩口后进入流体输出流道;收缩口的宽度小于离散相流道的宽度;连续相流道的深度大于离散相流道和收缩口的深度,且离散相流道出口在横向和深度方向上位于连续相流道的中间位置。该微流控芯片容易产生聚焦流,可以稳定生成亚微米液滴。 | ||
搜索关键词: | 三维 聚焦 合成 液滴微流控 芯片 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
三维聚焦流合成液滴微流控芯片,其特征在于,包含连续相层和离散相层;所述连续相层包含连续相流道(502)、连续相储液池(503)、防堵塞阵列结构(507)、流体输出流道(505)和流体输出口(506),所述离散相层包含离散相流道(501)、离散相储液池(504)和收缩口(508);所述连续相流道(502)从连续相储液池(503)开始,经过所述防堵塞阵列结构(507)后形成一条流道,在中途分成两条连续相流道(502),对称分布于所述离散相流道(501)两侧,并且最终在所述离散相流道(501)出口处相交相通,连续相流体以360°对称挤压离散相流体使离散相流体形成聚焦流,流经所述收缩口(508)后进入所述流体输出流道(505);所述收缩口(508)的宽度小于所述离散相流道(501)的宽度以形成聚焦流动;所述连续相流道(502)的深度大于所述离散相流道(501)和所述收缩口(508)的深度,且所述离散相流道(501)出口在横向和深度方向上位于所述连续相流道(502)的中间位置,形成三维立体结构。
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