[发明专利]镀有抗反射膜的衍射光学元件的优化设计方法

摘要

镀有抗反射膜的衍射光学元件的优化设计方法属于光学设计技术领域。现有技术仅考虑衍射光学元件本体对衍射效率的影响，并未考虑所述抗反射膜对衍射光学元件衍射效率的影响。本发明之镀有抗反射膜的衍射光学元件的优化设计方法首先设计衍射光学元件的表面衍射微结构高度；其特征在于，其次，计算由衍射光学元件表面抗反射膜膜系各膜层材料和厚度引入的附加位相；最后，用所述表面衍射微结构高度减去与所述抗反射膜附加位相相当的高度，得到衍射光学元件本体表面衍射微结构的加工高度。应用于镀有抗反射膜的衍射光学元件的优化设计，能够在实现衍射光学元件抗反射的同时，使得设计波长的衍射效率达到100％。

主权项

1.一种镀有抗反射膜的衍射光学元件的优化设计方法，首先，设计衍射光学元件的表面衍射微结构高度；其特征在于，其次，计算由衍射光学元件表面抗反射膜膜系各膜层材料和厚度引入的附加位相；最后，用所述表面衍射微结构高度减去与所述抗反射膜附加位相相当的高度，得到衍射光学元件本体表面衍射微结构的加工高度；其中，设定一个等高层，所述等高层的位相与抗反射膜的附加位相相同，将等高层高度h作为与所述抗反射膜附加位相相当的高度：式中：φ_coating为由衍射光学元件表面抗反射膜膜系各膜层材料和厚度引入的附加位相，λ_设计为设计波长，n(λ_设计)为衍射光学元件本体材料对设计波长的折射率，n₀(λ_设计)为周围环境介质对设计波长的折射率。