[发明专利]一种太赫兹近场显微成像检测仪有效
| 申请号： | 201710206659.6 | 申请日： | 2017-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN107101941B | 公开（公告）日： | 2019-08-02 |
| 发明（设计）人： | 郭劼;郭良贤;袁英豪;姚远;熊波涛;周正;李渊;李超;陈师雄;李长庚 | 申请（专利权）人： | 湖北久之洋红外系统股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/01 | 分类号： | G01N21/01;G01N21/55;G01N21/59 |
| 代理公司： | 武汉凌达知识产权事务所(特殊普通合伙) 42221 | 代理人： | 刘念涛;宋国荣 |
| 地址： | 430223 湖北省*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种太赫兹显微成像检测仪，包括平板以及长方体抛物面镜，所述的平板上依次设置有位于入射光路上的入射抛物面镜组、反射平面镜组和透射抛物面镜组以及位于反射光路上的聚波平面镜组、出射平面镜组和出射抛物面镜，所述的入射抛物面镜组上设置有抛物面镜，所述的透射抛物面镜组上设置有透射抛物面镜，所述的长方体抛物面镜前方设置有金属纳米探针；本发明采用双直线导轨移动椭圆形平面镜，实现两种测量方式迅速切换，太赫兹波均可汇聚到针尖和样品之间，从而实现两种测量方式的组合，以此保证了太赫兹反射式近场显微成像、太赫兹透射式近场显微成像的测量精度，解决了不同样品情况下不同测量方式的组合问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 赫兹 近场 显微 成像 检测 | ||
【主权项】：
1.一种太赫兹近场显微成像检测仪，其特征在于：包括平板以及长方体抛物面镜（2），所述的平板上依次设置有位于入射光路上的入射抛物面镜组（18）、反射平面镜组（3）和透射抛物面镜组（10）以及位于反射光路上的聚波平面镜组（4）、出射平面镜组（5）和出射抛物面镜（8），所述的入射抛物面镜组（18）上设置有抛物面镜（18.6），所述的反射平面镜组（3）上设置有反射平面镜（3.6），所述的透射抛物面镜组（10）上设置有透射抛物面镜（10.1），所述的长方体抛物面镜（2）前方设置有金属纳米探针（11），所述的聚波平面镜组（4）上设置有所述的聚波平面镜（4.8），所述的出射平面镜组（5）上设置有所述的出射平面镜（5.6），所述的平板上安装有位于透射抛物面镜组（10）前方的直线导轨（14），所述的直线导轨（14）上安装有入射平面镜组（13），所述的入射平面镜组（13）上设置有入射平面镜（13.2）；所述的平板包括下层平板（9）以及通过左支撑架（17）和右支撑架（7）固定在下层平板（9）上的上层平板（1），所述的长方体抛物面镜（2）、反射平面镜组（3）、聚波平面镜组（4）和出射平面镜组（5）安装在上层平板（1）上，所述的出射抛物面镜（8）、透射抛物面镜组（10）、金属纳米探针（11）、入射抛物面镜组（18）和直线导轨（14）安装在下层平板（9）上。
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