[发明专利]光学材料用高纯度1,2,3,5,6‑五硫杂环庚烷及其纯化方法在审
| 申请号： | 201710131776.0 | 申请日： | 2017-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN107176946A | 公开（公告）日： | 2017-09-19 |
| 发明（设计）人： | 西森庆彦;今川阳介;山本良亮;堀越裕 | 申请（专利权）人： | 三菱瓦斯化学株式会社 |
| 主分类号： | C07D341/00 | 分类号： | C07D341/00;C08G75/06 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 | 代理人： | 刘新宇,李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及光学材料用高纯度1,2,3,5,6‑五硫杂环庚烷及其纯化方法。本发明要解决的课题在于，提供一种能够得到透明性高的固化物的光学材料用高纯度1,2,3,5,6‑五硫杂环庚烷及其纯化法。通过如下的光学材料用1,2,3,5,6‑五硫杂环庚烷能够解决上述课题将纯化后的1,2,3,5,6‑五硫杂环庚烷2g溶解于氯仿30g而得到的溶液的浊度为500ppm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 光学材料 纯度 五硫杂环 庚烷 及其 纯化 方法 | ||
【主权项】：
一种1,2,3,5,6‑五硫杂环庚烷，其中，将纯化后的1,2,3,5,6‑五硫杂环庚烷2g溶解于氯仿30g而得到的溶液的浊度为500ppm以下。
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