[发明专利]一种基于多层纳米流体的二维环形可调控光学隐身斗篷有效
申请号: | 201710062123.1 | 申请日: | 2017-01-31 |
公开(公告)号: | CN106983189B | 公开(公告)日: | 2019-02-01 |
发明(设计)人: | 曹暾 | 申请(专利权)人: | 大连理工大学 |
主分类号: | A41D3/08 | 分类号: | A41D3/08;A41D13/00;A41D31/02 |
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地址: | 116024 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明提供了一种基于多层纳米流体的二维环形可调控光学隐身斗篷。该斗篷将纳米流体环层以x‑y水平面中心为轴,在x、y轴线方向逐层延拓形成,通过控制不同环层中纳米流体的纳米颗粒特性、流体的结构以及纳米颗粒的化学组成,可以使每层对应不同的介电常数和磁导率系数,获得光学隐身所需的二维介电常数和磁导率系数分布,进而使光线绕过斗篷区域后,光场恢复原来的分布,实现光学隐身功能,为处在光学隐身斗篷中心的物体屏蔽掉外界光线干扰,同时不影响外界光场分布。同时,通过循环控制每个纳米流体环层中的纳米颗粒特性、流体的结构以及纳米颗粒的化学组成,实现光学隐身斗篷的实时开/关性能,克服二维光学隐身斗篷不能循环开关的缺点。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 多层 纳米 流体 二维 环形 调控 光学 隐身 斗篷 | ||
【主权项】:
1.一种基于多层纳米流体的二维环形可调控光学隐身斗篷,其特征在于,该二维环形可调控光学隐身斗篷包括衬底层、间隔环层、纳米流体环层、纳米流体环层上方的金属薄层盖片、控制单元和供能单元;该二维环形可调控光学隐身斗篷将纳米流体环层以x‑y水平面中心为轴,在x、y轴线方向逐层周期延拓形成;每个纳米流体环层上方均盖有金属薄层盖片,每个纳米流体环层之间均有间隔环层隔离;衬底层刻有多层环形槽,用于承载纳米流体,实现纳米流体环层,被隐藏的目标置于二维多层纳米流体环层的中心位置;金属薄层盖片表面连接导线,导线另一端依次经过控制单元和供能单元接地,通过操控控制单元,调控供能单元对每层纳米流体环层的作用时间,进而控制不同纳米流体环层中纳米颗粒特性、流体的结构以及纳米颗粒的化学组成,使每层纳米流体环层对应不同的介电常数和磁导率,实现光学隐身所需的二维介电常数和磁导率分布,进而使光线绕过二维斗篷区域后,光场恢复原来分布,实现光学隐身功能。
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