[发明专利]一种基于多层纳米流体的二维环形可调控光学隐身斗篷有效

专利信息
申请号: 201710062123.1 申请日: 2017-01-31
公开(公告)号: CN106983189B 公开(公告)日: 2019-02-01
发明(设计)人: 曹暾 申请(专利权)人: 大连理工大学
主分类号: A41D3/08 分类号: A41D3/08;A41D13/00;A41D31/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 116024 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明提供了一种基于多层纳米流体的二维环形可调控光学隐身斗篷。该斗篷将纳米流体环层以x‑y水平面中心为轴,在x、y轴线方向逐层延拓形成,通过控制不同环层中纳米流体的纳米颗粒特性、流体的结构以及纳米颗粒的化学组成,可以使每层对应不同的介电常数和磁导率系数,获得光学隐身所需的二维介电常数和磁导率系数分布,进而使光线绕过斗篷区域后,光场恢复原来的分布,实现光学隐身功能,为处在光学隐身斗篷中心的物体屏蔽掉外界光线干扰,同时不影响外界光场分布。同时,通过循环控制每个纳米流体环层中的纳米颗粒特性、流体的结构以及纳米颗粒的化学组成,实现光学隐身斗篷的实时开/关性能,克服二维光学隐身斗篷不能循环开关的缺点。
搜索关键词: 一种 基于 多层 纳米 流体 二维 环形 调控 光学 隐身 斗篷
【主权项】:
1.一种基于多层纳米流体的二维环形可调控光学隐身斗篷,其特征在于,该二维环形可调控光学隐身斗篷包括衬底层、间隔环层、纳米流体环层、纳米流体环层上方的金属薄层盖片、控制单元和供能单元;该二维环形可调控光学隐身斗篷将纳米流体环层以x‑y水平面中心为轴,在x、y轴线方向逐层周期延拓形成;每个纳米流体环层上方均盖有金属薄层盖片,每个纳米流体环层之间均有间隔环层隔离;衬底层刻有多层环形槽,用于承载纳米流体,实现纳米流体环层,被隐藏的目标置于二维多层纳米流体环层的中心位置;金属薄层盖片表面连接导线,导线另一端依次经过控制单元和供能单元接地,通过操控控制单元,调控供能单元对每层纳米流体环层的作用时间,进而控制不同纳米流体环层中纳米颗粒特性、流体的结构以及纳米颗粒的化学组成,使每层纳米流体环层对应不同的介电常数和磁导率,实现光学隐身所需的二维介电常数和磁导率分布,进而使光线绕过二维斗篷区域后,光场恢复原来分布,实现光学隐身功能。
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