[发明专利]一种用于制备石墨烯电容的设备在审
| 申请号： | 201710029142.4 | 申请日： | 2017-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN106898505A | 公开（公告）日： | 2017-06-27 |
| 发明（设计）人： | 王奉瑾 | 申请（专利权）人： | 王奉瑾 |
| 主分类号： | H01G13/00 | 分类号： | H01G13/00 |
| 代理公司： | 中山市铭洋专利商标事务所(普通合伙)44286 | 代理人： | 冯汉桥 |
| 地址： | 528437 广东省中*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种用于制备石墨烯电容的设备，其包括有机架，在所述的机架上设有工作平台；还包括有设于机架上干燥设备、可寻址位移机构，以及受位移机构控制的氧化石墨烯溶液涂覆设备、介电隔膜材料涂覆设备、正极材料涂覆设备、高能射线照射设备、清洗设备。本发明通过在有机薄膜上先后完成氧化石墨烯溶液的预定轨迹涂覆、高能射线还原石墨烯、介电隔膜材料的涂覆和固化、正极材料的涂覆和固化，从而完成单个石墨烯电容的制造，可实现单个单体石墨烯电容、多个单体石墨烯电容，甚至多规格多型号单体石墨烯电容的同时制造，结构合理，灵活可控，制造简单快捷，生产成本低，工况平和。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 制备 石墨 电容 设备 | ||
【主权项】：
一种用于制备石墨烯电容的设备，其特征在于，其包括有机架，在所述的机架上设有工作平台；还包括有设于机架上的氧化石墨烯溶液涂覆设备、介电隔膜材料涂覆设备、正极材料涂覆设备、高能射线照射设备、清洗设备，以及干燥设备；还包括有设于机架上的可寻址位移机构，所述的氧化石墨烯溶液涂覆设备、介电隔膜材料涂覆设备、正极材料涂覆设备、高能射线照射设备、清洗设备均与位移机构连接且可于位移机构控制下移动至工作平台上方的任意位置；所述的干燥设备可热辐射至工作平台上。
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