[发明专利]一种煤气在窑炉上的使用方法

摘要

煤气在窑炉上的使用方法，涉及煤气的使用方法，开大煤气阀，或煤气炉加煤，煤气压力减少，氧化层上升；关小煤气阀，或停煤气炉加煤，煤气压力增加，氧化层下降；煤气炉增加空气流量，窑炉升温少，是氧化层循环位置低。调节煤气阀，提前于对应的煤气压力变化。开大煤气阀，煤气压力减少，在氧化层上升过程。关小煤气阀，煤气压力增加在氧化层下降后部过程。调节各烧嘴之间流量，或清理烧嘴内灰尘，煤气压力变化在氧化层上升过程。窑炉两侧安装除渣指示灯。本发明的优点在于，确定了煤气压力变化与氧化层的关系，煤气炉气化效率高，或波动小，快速升降或稳定窑炉温度。

主权项

一种煤气在窑炉上的使用方法，其特征是，包括：开大煤气阀，或煤气炉加煤，煤气压力每减少10Pa，氧化层上升10‑30mm，其一，气化剂混合前，蒸汽压力小，氧化层上升距离小，蒸汽压力大，氧化层上升距离大，其二，气化剂混合后，蒸汽压力降幅大，氧化层上升距离小，蒸汽压力降幅小，氧化层上升距离大，与气化剂混合器有关；开大煤气阀，煤气压力减少，饱和温度升高，然后维持饱和温度和蒸汽压力稳定，氧化层上升距离基本等于氧化层循环位置上升距离；关小煤气阀，或停煤气炉加煤，煤气压力每增加10Pa，氧化层下降10‑30mm，其一，气化剂混合前，蒸汽压力小，氧化层下降距离小，蒸汽压力大，氧化层下降距离大，其二，气化剂混合后，蒸汽压力降幅大，氧化层下降距离小，蒸汽压力降幅小，氧化层下降距离大，与气化剂混合器有关；关小煤气阀，煤气压力增加，饱和温度降低，然后维持饱和温度和蒸汽压力稳定，氧化层下降距离基本等于氧化层循环位置下降的距离；煤气炉增加空气流量相等，窑炉运行参数相同，窑炉升温少，是煤气炉氧化层循环位置低，开大煤气阀，减少煤气压力小于或等于20Pa。