[发明专利]基于量块理念的梯度功能研抛盘的制备方法有效

专利信息
申请号: 201710010028.7 申请日: 2017-01-06
公开(公告)号: CN106737253B 公开(公告)日: 2019-03-05
发明(设计)人: 金明生;康杰;文东辉;潘烨;张利 申请(专利权)人: 浙江工业大学
主分类号: B24D18/00 分类号: B24D18/00
代理公司: 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 代理人: 吴秉中
地址: 310014 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种基于量块理念的梯度功能研抛盘的制备方法,将传统的研磨盘分隔成多个一级环,并且将所有分割出的环分割成多个等级的二级环,所有的二级环形成具有多个梯度的等级库,根据加工工件的加工要求,从等级库中取出相应等级的环组合形成具有梯度分布的研抛盘。本发明实现了在一个研抛盘上可以同时完成研磨和抛光工序,提高了加工的效率;研抛盘的弹性模量在轴向和径向上都存在弹性模量的梯度式分布,工件更容易实现按需去除,提高加工表面的质量;基于量块的等级理念,创新的构建了一个研抛盘的等级库,可以实现研抛盘的实时组合,替换方便,且便于任意工件的加工,很容易便可以配组出与之适应的研抛盘。
搜索关键词: 基于 量块 理念 梯度 功能 研抛盘 制备 方法
【主权项】:
1.一种基于量块理念的梯度功能研抛盘的制备方法,其特征在于:将研磨盘分割成多个一级环,并且将所有分割出的一级环分割成多个等级的二级环,所有的二级环形成具有多个弹性模量梯度的等级库,根据加工工件的加工要求,从等级库中取出相应等级的环组合形成具有梯度分布的研抛盘。
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