[发明专利]一种铜铟镓硒薄膜太阳能电池窗口层及其制备方法有效
申请号: | 201710004441.2 | 申请日: | 2017-01-04 |
公开(公告)号: | CN106684184B | 公开(公告)日: | 2018-04-10 |
发明(设计)人: | 任宇航;邹以慧;罗明新 | 申请(专利权)人: | 浙江尚越新能源开发有限公司 |
主分类号: | H01L31/0445 | 分类号: | H01L31/0445;H01L31/18 |
代理公司: | 杭州华知专利事务所(普通合伙)33235 | 代理人: | 龙湖浩 |
地址: | 311100 浙江省杭州市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种铜铟镓硒薄膜太阳能电池窗口层,从底面往上由下膜层和上膜层组成,下膜层为掺杂ZnO膜层,上膜层为ITO膜层或掺杂ZnO膜层,下膜层和上膜层均为掺杂ZnO膜层时,为不同掺杂ZnO膜层。本发明还公开了其制备方法,两种不同的薄膜都可以使用常见的DC电源去沉积,无需增加额外的装置,操作方便,利于生产。沉积下膜层时,可以选择不同掺杂的ZnO靶材,通过调节沉积温度、气氛、气压、功率等,得到满足生产要求的下膜层,加上连续生产的上膜层,与整体电池相匹配,此过程提高了生产效率,减少生产成本,薄膜质量易于控制。 | ||
搜索关键词: | 一种 铜铟镓硒 薄膜 太阳能电池 窗口 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种铜铟镓硒薄膜太阳能电池窗口层的制备方法,其特征在于,所述铜铟镓硒薄膜太阳能电池窗口层从底面往上由下膜层和上膜层组成,下膜层为掺杂ZnO膜层,上膜层为ITO膜层或掺杂ZnO膜层,下膜层和上膜层均为掺杂ZnO膜层时,为不同掺杂ZnO膜层,具体制备包括如下步骤:步骤一、将依次沉积背电极、吸收层、缓冲层的衬底放入真空腔室;步骤二、真空腔室分为若干个沉积室,前置沉积室安装下膜层靶材,后续沉积室安装上膜层靶材,真空腔室温度维持在50‑350℃下,抽真空至低于5×10‑4Torr,后充气氛维持真空腔室在1‑30m Torr下;步骤三、待真空腔室气压稳定后,采用DC磁控溅射、MF磁控溅射或RF磁控溅射分别对下膜层靶材和上膜层靶材进行溅射,在衬底上依次溅射下膜层和上膜层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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