[发明专利]用于形成热喷墨打印头的方法、热喷墨打印头和半导体晶圆有效

专利信息
申请号: 201680090270.3 申请日: 2016-10-19
公开(公告)号: CN109843594B 公开(公告)日: 2021-04-27
发明(设计)人: P·斯基纳;S·巴尔迪;I·蒂塞尼亚;M·佩里尼 申请(专利权)人: 锡克拜控股有限公司
主分类号: B41J2/14 分类号: B41J2/14
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 瑞士*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种用于形成热喷墨打印头的方法,所述方法至少包括以下步骤:提供半导体晶圆,所述半导体晶圆包括集成电子电路和用于形成热致动器元件的部分,所述集成电子电路至少包括:形成在衬底上方的热隔绝层;以及形成在所述热隔绝层上方的第一金属层,其中,所述第一金属层延伸到用于形成热致动器元件的部分中;以及将用于形成热致动器元件的部分蚀刻到所述第一金属层,使得所述第一金属层用作蚀刻停止层。此外,提供了通过本发明的方法所形成的热喷墨打印头和用于通过本发明的方法来形成热喷墨打印头的半导体晶圆。
搜索关键词: 用于 形成 喷墨 打印头 方法 半导体
【主权项】:
1.一种用于形成热喷墨打印头的方法,所述方法至少包括以下步骤:提供半导体晶圆,所述半导体晶圆包括集成电子电路和用于形成热致动器元件的部分,所述集成电子电路至少包括:形成在衬底上方的热隔绝层;以及形成在所述热隔绝层上方的第一金属层,其中,所述第一金属层延伸到所述用于形成热致动器元件的部分中;以及将所述用于形成热致动器元件的部分蚀刻到所述第一金属层,使得所述第一金属层用作蚀刻停止层。
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说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

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