[发明专利]电磁波屏蔽膜及其制造方法有效
| 申请号： | 201680076117.5 | 申请日： | 2016-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN108476607B | 公开（公告）日： | 2020-09-25 |
| 发明（设计）人： | 岩井靖;柳善治;都地辉明;西山刚司;藤信男 | 申请（专利权）人： | 拓自达电线株式会社;东丽KP薄膜股份有限公司 |
| 主分类号： | H05K9/00 | 分类号： | H05K9/00;B32B15/08 |
| 代理公司： | 北京市安伦律师事务所 11339 | 代理人： | 郭扬;孙晓斌 |
| 地址： | 日本大阪府东*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 电磁波屏蔽膜（1）包括：由以镍为主要成分的第1金属层（5）和以铜为主要成分的第2金属层（6）构成的屏蔽层（2），设置于屏蔽层（2）的第2金属层（6）一侧的面上的接合剂层（3），设置于屏蔽层（2）的第1金属层一侧的面上的保护层（4）。第2金属层（6）的平均晶粒尺寸为50nm以上200nm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 电磁波 屏蔽 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种电磁波屏蔽膜，其特征在于：包括：由以镍为主要成分的第1金属层和以铜为主要成分的第2金属层构成的屏蔽层，设置于所述屏蔽层的所述第2金属层一侧的面上的接合剂层，设置于所述屏蔽层的所述第1金属层一侧的面上的保护层，其中，所述第2金属层的平均晶粒尺寸为50nm以上200nm以下。
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