[发明专利]具有全视场探测器的扫描X射线装置有效
| 申请号： | 201680038573.0 | 申请日： | 2016-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN107847199B | 公开（公告）日： | 2021-08-17 |
| 发明（设计）人： | T·克勒;G·马滕斯;R·普罗克绍;H-I·马克;U·范斯特文达勒;F·普法伊费尔;P·诺埃尔;M·冯托伊芬巴赫 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 孟杰雄;王英 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种具有干涉仪(IF)和X射线探测器(D)的X射线成像装置。所述X射线探测器(D)的覆盖范围大于所述干涉仪(IF)的覆盖范围。所述干涉仪在扫描运动中跨所述探测器(D)移动，同时所述探测器(D)保持静止。优选地，所述探测器是2D全视场探测器。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 视场 探测器 扫描 射线 装置 | ||
【主权项】：
一种X射线成像装置，包括：‑X射线源(XR)，其用于发射X射线辐射的射束；‑X射线探测器(D)，其被布置为跨用于容纳要被成像的目标的检查区域与所述X射线源相对；以及‑干涉仪(IF)，其被布置在所述X射线源(XR)与所述X射线探测器之间，所述干涉仪在用于执行差分相衬成像和/或暗场成像的操作期间至少部分被布置在X射线辐射的所述射束中，所述干涉仪(IF)包括至少一个光栅(G1)以将能由所述X射线探测器探测的干涉图案调制到所述X射线辐射上；其中，所述至少一个光栅的覆盖范围小于所述X射线探测器的辐射敏感区的覆盖范围；并且其中，所述装置被配置为在成像操作期间实现所述至少一个光栅在相对于所述X射线探测器的扫描运动中移动，同时所述X射线探测器相对于所述检查区域保持静止。
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