[发明专利]基板处理系统有效
申请号: | 201680036794.4 | 申请日: | 2016-08-04 |
公开(公告)号: | CN107710396B | 公开(公告)日: | 2021-12-03 |
发明(设计)人: | 大桥泰彦 | 申请(专利权)人: | 株式会社斯库林集团 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 向勇;崔炳哲 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种能够抑制基板的污染且布局的自由度较高的基板处理系统。本发明的FOUP搬送部300是由能够调整长度的轨道32及能够自行推进的FOUP保持部30构成。因此,可通过单位轨道320的装卸及基板处理装置20的追加、去除这样的容易的作业而进行基板处理系统1的扩张或缩小(基板处理装置20的追加或去除)。又,FOUP搬送部300将收纳有基板的FOU P80搬送至各基板处理装置20。因此,基板暴露于FOUP80外部的环境气体的时间较短,从而可有效地抑制对基板的污染。 | ||
搜索关键词: | 处理 系统 | ||
【主权项】:
一种基板处理系统,其是从收纳有基板的容纳架取出基板并进行处理的基板处理系统,其特征在于,具备:第1交接部,在该基板处理系统与所述基板处理系统的外部之间交接上述容纳架,基板处理装置组,多个基板处理装置排列成一列,且在多个所述基板处理装置的排列方向上,在多个所述基板处理装置的一侧邻接配置所述第1交接部,以及容纳架搬送部,沿着所述第1交接部及所述基板处理装置组的排列方向双向搬送所述容纳架;构成所述基板处理装置组的各所述基板处理装置具有:第2交接部,在基板处理装置与所述容纳架搬送部之间交接所述容纳架,多个处理部,对所述基板执行处理,以及至少一个基板搬送部,在配置于所述第2交接部的所述容纳架与所述多个处理部之间搬送所述基板。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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