[发明专利]包含具有长链烷基的环氧基加成体的抗蚀剂下层膜形成用组合物有效
| 申请号： | 201680034828.6 | 申请日： | 2016-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN107735729B | 公开（公告）日： | 2021-09-28 |
| 发明（设计）人： | 远藤贵文;齐藤大悟;柄泽凉;坂本力丸 | 申请（专利权）人： | 日产化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 马妮楠;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的课题在于提供一种用于在基板上形成平坦化性高的涂膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物。解决手段为一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含环氧基加成体(C)，所述环氧基加成体(C)是通过含环氧基的化合物(A)与环氧基加成体形成性化合物(B)反应而得到的，在所述化合物(A)和所述化合物(B)中的一者或双者中包含可具有支链的碳原子数为3以上的烷基，环氧基加成体形成性化合物(B)为选自羧酸(B1)、羧酸酐(B2)、酚化合物(B3)、含羟基的化合物(B4)、硫醇化合物(B5)、氨基化合物(B6)及酰亚胺化合物(B7)中的至少1种化合物。可具有支链的碳原子数为3以上的烷基包含在环氧基加成体形成性化合物(B)中。可具有支链的碳原子数为3以上的烷基为碳原子数为3～19的烷基。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 具有 烷基 环氧基加 成体 抗蚀剂 下层 形成 组合 | ||
【主权项】：
一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含环氧基加成体C，所述环氧基加成体C是通过含环氧基的化合物A与环氧基加成体形成性化合物B反应而得到的，在所述化合物A和所述化合物B中的一者或两者中包含可具有支链的碳原子数为3以上的烷基。
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