[发明专利]涂覆含硫密封剂的方法、用于该方法的装置、相应的经处理的航天器及其用途有效

专利信息
申请号: 201680021654.X 申请日: 2016-02-12
公开(公告)号: CN107454912B 公开(公告)日: 2021-02-19
发明(设计)人: P·邦斯;S·赖歇特;B·西弗斯;M·克拉列夫 申请(专利权)人: 凯密特尔有限责任公司
主分类号: C09K3/10 分类号: C09K3/10
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 肖威;刘金辉
地址: 德国法*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种特别是在航天组件上的至少一个涂覆位置上借助至少一个喷嘴元件和至少一个照射单元用含硫SCOD密封剂对至少一个自表面凸起的连接元件进行密封、涂覆和/或空气动力学平滑化和/或对间隙或不平整的连接位置上的表面进行密封、涂覆和/或空气动力学平滑化的方法,其特征在于:i)喷嘴元件包含经混合的密封剂,且将所述密封剂导引至和/或滑过自表面凸起的连接元件、间隙和/或不平整的连接位置上方,ii)自表面凸起的连接元件、间隙和/或不平整的连接位置完全被密封剂覆盖,其中密封剂形成密封剂覆盖物,其基本上呈密封剂帽、涂层和/或堆状或珠粒状凸起的形状,iii)需要的话,将喷嘴元件或其至少一部分从具有密封剂覆盖物的表面升起和/或运动,和iv)借助至少一个照射单元进行能量输入,以及通过释放潜催化剂而引发密封剂的固化,或者通过直接激活至少一个反应组分实现密封剂的固化,从而使得经混合的密封剂随后固化和/或进一步硬化。本发明还涉及一种相应的装置,以此方式处理的航天器,以及所述方法和装置的用途。
搜索关键词: 涂覆含硫 密封剂 方法 用于 装置 相应 处理 航天器 及其 用途
【主权项】:
一种特别是在航天组件上的至少一个涂覆位置上借助至少一个喷嘴元件和至少一个照射单元用含硫SCOD密封剂对至少一个自表面凸起的连接元件进行密封、涂覆和/或空气动力学平滑化和/或对间隙或不平整的连接位置上的表面进行密封、涂覆和/或空气动力学平滑化的方法,其特征在于:i)所述至少一个喷嘴元件包含经混合的、未固化或至少部分未固化的SCOD密封剂,该喷嘴元件的内部空间直接或间接地与密封剂储器连接—即与至少一个混合装置连接、与至少一个密封剂储槽连接、与至少一个料筒连接和/或与至少一个料筒仓连接—且将所述密封剂导引至和/或滑过自表面凸起的连接元件、间隙和/或不平整的连接位置上方,因此使其与该表面接触或送至该表面附近,ii)将来自密封剂储器如储槽的SCOD密封剂充入至少一个喷嘴元件的内部空间,并在一定程度上至少大致与所述表面接触,从而使得自所述表面凸起的连接元件、间隙和/或不平整的连接位置—全部称为“涂覆位置”—完全被SCOD密封剂覆盖,其中SCOD密封剂形成密封剂涂层,其基本上具有密封剂帽、涂层和/或堆状或珠粒状凸起的形状,iii)需要的话,将至少一个喷嘴元件或至少一个喷嘴元件的至少一部分从具有密封剂涂层的表面升起和/或运动,从而可避免密封剂涂层受损,和iv)1)通过至少一个照射单元将能量输入密封剂涂层,例如用高能辐射进行照射而引发SCOD密封剂的固化,以及2a)其中和/或由此地,通过释放潜催化剂进行引发或者2.b)其中和/或由此地,通过直接激活至少一种反应组分而实现SCOD密封剂的固化,从而使得经混合的SCOD密封剂随后固化和/或进一步固化。
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