[发明专利]用于紫外线处理流体的装置及其应用有效
| 申请号： | 201680004747.1 | 申请日： | 2016-05-05 |
| 公开（公告）号： | CN107108274B | 公开（公告）日： | 2021-07-02 |
| 发明（设计）人： | 安德烈亚斯曼弗雷德·科赫;德科·保尔斯迈耶;徐宏斌 | 申请（专利权）人： | 海特康股份公司 |
| 主分类号： | C02F1/32 | 分类号： | C02F1/32 |
| 代理公司： | 北京博华智恒知识产权代理事务所(普通合伙) 11431 | 代理人： | 樊卫民;张晔 |
| 地址： | 瑞士卢塞恩*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于处理流体的装置，所述装置包括通流壳体(1；11)、盖(2；12)、入口(3；13)、具有内壁(5；15)的反应室(4；14)、出口(6；16)和指向到反应室(4；14)中的紫外线发光二极管的辐射源(7)，以及供电装置，所述装置以很少的技术代价和较小的结构空间实现高的净化效率并且仅需要很低的电功率，这通过如下方式实现，即，由内部空间构成的反应室(4；14)采用流体技术的结构，所述辐射源(7)设置在流体中挨着内壁(5；15)设置或设置在其中，并且由流体技术的结构向穿流的流体施加旋转的流体涡流(8；18)，所述辐射源(7)取向为能沿径向由外向内和/或从侧向照射所述流体涡流，并且在流体涡流(8；18)中的至少部分流体在离开反应室(4；14)之前多次从辐射源(7)旁边引过。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 紫外线 处理 流体 装置 及其 应用 | ||
【主权项】：
用于处理流体、比如液体或者气体的装置，所述装置包括具有盖(2；12)的通流壳体(1；11)、入口(3；13)、具有内壁(5；15)的反应室(4；14)和出口(6；16)并且具有指向到反应室(4；14)中的紫外线发光二极管的辐射源(7)，以及用于所述辐射源的供电装置，其特征在于，所述反应室(4；14)包括自由的内部空间，所述内部空间具有围绕的内壁(5；15)，所述反应室采用流体技术的结构，所述辐射源(7)在流体中挨着内壁(5；15)设置或设置在其中并且由所述流体技术的结构向穿流的流体施加旋转的流体涡流(8；18)，所述辐射源(7)取向为能沿径向由外向内和/或从侧向照射所述流体涡流，并且在流体涡流(8；18)中的至少部分流体在离开所述反应室(4；14)之前多次从辐射源(7)旁边引过。
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