[实用新型]一种用于镍始极片整体下槽的隔膜架有效

专利信息
申请号: 201621292893.2 申请日: 2016-11-29
公开(公告)号: CN206289317U 公开(公告)日: 2017-06-30
发明(设计)人: 刘军;刘晓峰;张永萍;柴国梁;李改变;朱良琴 申请(专利权)人: 金川集团股份有限公司
主分类号: C25C1/08 分类号: C25C1/08;C25C7/04
代理公司: 甘肃省知识产权事务中心62100 代理人: 李琪
地址: 737103*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要: 实用新型属于化工设备领域,涉及一种用于镍始极片整体下槽的隔膜架。本实用新型包括外框架和内框架,所述外框架和内框架为矩形框架结构,内框架顶部开口且其内具有可容纳镍始极片的第一腔室,外框架顶部开口且其内具有可容纳内框架的第二腔室,所述内框架设置于第二腔室内。本实用新型通过内框架将镍始极片与隔膜袋分隔开,并通过外框架将隔膜袋贴合与内框架上,有效防止了镍始极片与隔膜袋粘连、隔膜袋已破损的情况,大幅降低隔膜袋消耗量,并降低了员工的工作强度。
搜索关键词: 一种 用于 镍始极片 整体 隔膜
【主权项】:
一种用于镍始极片整体下槽的隔膜架,其特征在于:包括外框架(1)和内框架(2),所述外框架(1)和内框架(2)为矩形框架结构,内框架(2)顶部开口且其内具有可容纳镍始极片的第一腔室(3),外框架(1)顶部开口且其内具有可容纳内框架的第二腔室(4),所述内框架(2)设置于第二腔室(4)内。
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