[实用新型]背散射辐射成像系统有效

专利信息
申请号: 201621129363.6 申请日: 2016-10-17
公开(公告)号: CN206420797U 公开(公告)日: 2017-08-18
发明(设计)人: 曹艳锋;王少锋;王彦华;胡晓伟;梁志超;毛晓燕;高超 申请(专利权)人: 北京君和信达科技有限公司
主分类号: G01N23/203 分类号: G01N23/203
代理公司: 北京展翼知识产权代理事务所(特殊普通合伙)11452 代理人: 屠长存
地址: 100088 北京市西*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型公开了一种背散射辐射成像系统,包括背散射成像装置、屏蔽体以及对中检测装置。其中,背散射成像装置用于对检测区域中的待检测物体进行背散射辐射成像;屏蔽体为用辐射屏蔽材料制成的可移动结构,适于与背光散射成像装置分别设置在检测区域两侧;对中检测装置包括发射部和接收部,分别设置在屏蔽体和背散射成像装置上,设置在背散射成像装置上的发射部或接收部位于背散射成像装置发射成像射线束的位置附近,发射部向预定方向发射对中检测信号。当接收部接收到对中检测信号或接收到对中检测信号的强度大于预定强度阈值时,向背散射成像装置发出对中信号。由此,可以高效地检测该屏蔽体是否正确和有效安装,提高了辐射成像过程的安全性。
搜索关键词: 散射 辐射 成像 系统
【主权项】:
一种背散射辐射成像系统,其特征在于,包括:背散射成像装置,用于对检测区域中的待检测物体进行背散射辐射成像;屏蔽体,所述屏蔽体为用辐射屏蔽材料制成的可移动结构,适于与所述背散射成像装置分别设置在所述检测区域两侧;以及对中检测装置,包括发射部和接收部,分别设置在所述屏蔽体和所述背散射成像装置上,其中,设置在所述背散射成像装置上的发射部或接收部位于所述背散射成像装置发射成像射线束的位置附近,所述发射部向预定方向发射对中检测信号,其中,当所述接收部接收到所述对中检测信号或接收到所述对中检测信号的强度大于预定强度阈值时,向所述背散射成像装置发出对中信号。
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