[实用新型]一种多晶硅铸锭用坩埚有效
| 申请号： | 201620893700.2 | 申请日： | 2016-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN206204475U | 公开（公告）日： | 2017-05-31 |
| 发明（设计）人： | 黎晓丰;翟传鑫;张伟娜;李飞龙 | 申请（专利权）人： | 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;阿特斯光伏电力（洛阳）有限公司 |
| 主分类号： | C30B28/06 | 分类号： | C30B28/06;C30B29/06 |
| 代理公司： | 苏州翔远专利代理事务所(普通合伙)32251 | 代理人： | 陆金星 |
| 地址： | 215129 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种多晶硅铸锭用坩埚，坩埚的内壁上设有涂层结构，所述涂层结构从内到外包括至少2层氮化硅涂层，且各层氮化硅涂层层叠设置；内层氮化硅涂层的厚度为0.1~0.5 mm，其表面粗糙度为1~10微米；外层氮化硅涂层的厚度大于等于1 mm。本实用新型在坩埚的内壁上设有涂层结构，该涂层结构中，与坩埚内壁直接相接触的内层氮化硅涂层的致密性较大，可以有效地隔离氧杂质，同时在内层氮化硅涂层上设置外层氮化硅涂层，由于外层氮化硅涂层的厚度较大，可以防止硅液侵蚀坩埚，从而同时实现了防止硅液侵蚀坩埚和隔离氧杂质。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 多晶 铸锭 坩埚 | ||
【主权项】：
一种多晶硅铸锭用坩埚，坩埚的内壁上设有涂层结构，其特征在于：所述涂层结构从内到外包括至少2层氮化硅涂层，且各层氮化硅涂层层叠设置；内层氮化硅涂层的厚度为0.1~0.5 mm，其表面粗糙度为1~10微米；外层氮化硅涂层的厚度大于等于1 mm。
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