[实用新型]一种隔磁片冲击试验测试装置有效
申请号: | 201620742013.0 | 申请日: | 2016-07-14 |
公开(公告)号: | CN206270185U | 公开(公告)日: | 2017-06-20 |
发明(设计)人: | 钱浩;谢永诚;刘刚;王德斌;许艳涛;张东升;刘斌;韩超 | 申请(专利权)人: | 上海核工程研究设计院;上海大学 |
主分类号: | G01N3/303 | 分类号: | G01N3/303 |
代理公司: | 上海精晟知识产权代理有限公司31253 | 代理人: | 冯子玲 |
地址: | 200233*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型提供一种隔磁片冲击试验测试装置,其包括试验部分和测试部分。试验部分包括钢质框架;衔铁,其通过衔铁高度调节装置安装于所述钢质框架上,所述衔铁高度调节装置用于调节所述衔铁在所述钢质框架上的高度;电磁铁,所述电磁铁安装与所述钢质框架上,并位于所述衔铁的上方;力传感器,其设置在所述钢质框架的底座上,并位于所述衔铁的下方;及隔磁片定位装置,其设置于所述力传感器上,并位于所述力传感器和所述衔铁之间,用于限制隔磁片在水平与竖直方向的位移。本实用新型提供的隔磁片冲击试验测试装置,满足了大质量冲击头低速冲击试验需求,用于研究材料的冲击疲劳性能。 | ||
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【主权项】:
一种隔磁片冲击试验测试装置,其特征在于,包括:试验部分,其包括:钢质框架;衔铁,其通过衔铁高度调节装置安装于所述钢质框架上,所述衔铁高度调节装置用于调节所述衔铁在所述钢质框架上的高度;电磁铁,所述电磁铁安装与所述钢质框架上,并位于所述衔铁的上方;力传感器,其设置在所述钢质框架的底座上,并位于所述衔铁的下方;及隔磁片定位装置,其设置于所述力传感器上,并位于所述力传感器和所述衔铁之间,用于限制隔磁片在水平与竖直方向的位移;及测试部分,其经配置以测试隔磁片受所述衔铁冲击过程的力学响应。
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