[实用新型]紧凑型柔性基材磁控溅射镀膜设备有效
| 申请号： | 201620689314.1 | 申请日： | 2016-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN205856597U | 公开（公告）日： | 2017-01-04 |
| 发明（设计）人： | 申请（专利权）人： | ||
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 广州市华学知识产权代理有限公司44245 | 代理人： | 谢静娜,裘晖 |
| 地址： | 52606*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种紧凑型柔性基材磁控溅射镀膜设备，是在真空室内设有分区隔板，真空室内的空间分隔成卷绕区和镀膜区，分区隔板上设有供柔性基材通过用的通孔，柔性基材贯穿于整个真空室中，加热器和离子源设于卷绕区内，磁控溅射装置设于镀膜区内；镀膜区内设有多个单元隔板，将镀膜区内的空间分隔成一个柔性基材输送单元和多个镀膜单元。其方法是分别对真空室内的卷绕区和镀膜区进行抽真空，放卷辊放出的柔性基材先经过卷绕区，在卷绕区内进行离子处理和预加热，再送入镀膜区，由多个镀膜单元依次进行溅射镀膜，最后送至卷绕区，由收卷辊进行收卷。本实用新型结构紧凑，节约设备成本，同时可有效防止不同工艺阶段的工作气氛相互影响。 | ||
| 搜索关键词： | 紧凑型 柔性 基材 磁控溅射 镀膜 设备 | ||
【主权项】：
紧凑型柔性基材磁控溅射镀膜设备，其特征在于，包括真空室、柔性基材卷绕机构、磁控溅射装置、加热器和离子源，真空室内设有分区隔板，分区隔板将真空室内的空间分隔成卷绕区和镀膜区，分区隔板上设有供柔性基材通过用的通孔，柔性基材贯穿于整个真空室中，加热器和离子源设于卷绕区内，磁控溅射装置设于镀膜区内；镀膜区内设有多个单元隔板，多个单元隔板将镀膜区内的空间分隔成一个柔性基材输送单元和多个镀膜单元。
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