[实用新型]一种PVD镀层波荡器磁铁有效
| 申请号： | 201620624812.8 | 申请日： | 2016-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN206179625U | 公开（公告）日： | 2017-05-17 |
| 发明（设计）人： | 陈君;乐务时 | 申请（专利权）人： | 苏州涂冠镀膜科技有限公司 |
| 主分类号： | H01F7/02 | 分类号： | H01F7/02;C23C14/14;C23C14/06;G21K1/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种PVD镀层波荡器磁铁，属于表面处理技术领域，它解决了现有技术中波荡器磁铁不耐长时间腐蚀和磨损的问题。本PVD镀层波荡器磁铁，包括本体，本体外表面通过PVD镀膜依次形成结合层、调制层、功能层，所述的调制层和功能层交替循环若干个周期。本PVD镀层波荡器磁铁采用PVD技术在本体表面分别形成结合层、调制层和功能层，一方面可以降低镀层应力提高镀层结合力；另一方面，各镀层采用纳米周期结构，在镀层中形成纳米结构相，实现镀层抗氧化、抗腐蚀和对基材气孔的完全封闭功能，提高磁铁的耐腐蚀和耐磨性并降低磁铁的放气率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 pvd 镀层 波荡 磁铁 | ||
【主权项】：
一种PVD镀层波荡器磁铁，包括本体，其特征在于，所述本体外表面通过PVD镀膜依次形成结合层、调制层、功能层，所述的调制层和功能层交替循环若干个周期，所述的结合层采用Cr或Ti或两者同时作为靶源轰击而成。
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