[实用新型]一种清洗三氯氢硅合成炉HCl分布盘的装置有效
| 申请号： | 201620574021.9 | 申请日： | 2016-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN205684409U | 公开（公告）日： | 2016-11-16 |
| 发明（设计）人： | 朱克虎;刘军;盛长海;王振荣;李英;彭冬寿;尹东林;王体虎 | 申请（专利权）人： | 亚洲硅业（青海）有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/10 | 分类号： | B08B3/10;B08B3/04 |
| 代理公司： | 兰州中科华西专利代理有限公司 62002 | 代理人： | 李艳华 |
| 地址： | 810007 青海*** | 国省代码： | 青海;63 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种清洗三氯氢硅合成炉HCl分布盘的装置，该装置包括底部四角设有滑轮且对应的两个侧面设有把手的水箱和设在所述水箱底部中心的蒸气盘管。所述蒸气盘管上均布有数个气孔，且该蒸气盘管的一端与低压蒸汽管线相连。本实用新型结构简单，易于实现，不但操作简单、清洗彻底，而且缩短了清洗时间，降低了检修人员的劳动强度，从而提高了工作效率和清洗效果，同时节约了大量的工业用水。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 洗三 氯氢硅 合成 hcl 分布 装置 | ||
【主权项】：
一种清洗三氯氢硅合成炉HCl分布盘的装置，其特征在于：该装置包括底部四角设有滑轮（7）且对应的两个侧面设有把手（5）的水箱（1）和设在所述水箱（1）底部中心的蒸气盘管（2）；所述蒸气盘管（2）上均布有数个气孔（3），且该蒸气盘管（2）的一端与低压蒸汽管线相连。
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