[实用新型]太阳辐射试验装置有效
申请号: | 201620539827.4 | 申请日: | 2016-06-02 |
公开(公告)号: | CN205786248U | 公开(公告)日: | 2016-12-07 |
发明(设计)人: | 周阳红生;解禾;郭振华;胡湘洪;王春辉;汪凯蔚;黄铎佳;袁敏 | 申请(专利权)人: | 工业和信息化部电子第五研究所 |
主分类号: | G01N17/00 | 分类号: | G01N17/00 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司44224 | 代理人: | 曾旻辉 |
地址: | 510610 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种太阳辐射试验装置,包括支撑架、设于所述支撑架上的辐照光源、位于所述辐照光源正下方的样品放置区域以及用于减少到达所述样品放置区域光强的减光组件,所述减光组件包括设于所述辐照光源与所述样品放置区域之间的至少一个减光片,每个所述减光片上设有至少一个减光区域。本实用新型仅需要在减光片上设计相应透光率的减光区域,使得光强经过减光片后减弱,进而使得到达样品表面的光强减少,即可实现低强度太阳辐射的控制。在实现低辐照强度的过程中,无须减少光源照射数量,因而避免了因减少光源而导致装置内光照不均的现象。 | ||
搜索关键词: | 太阳辐射 试验装置 | ||
【主权项】:
一种太阳辐射试验装置,其特征在于,包括支撑架、设于所述支撑架上的辐照光源、位于所述辐照光源正下方的样品放置区域以及用于减少到达所述样品放置区域光强的减光组件,所述减光组件包括设于所述辐照光源与所述样品放置区域之间的至少一个减光片,每个所述减光片上设有至少一个减光区域。
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